版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、過渡金屬氮化物由于其優(yōu)異的綜合性能,在現(xiàn)代工業(yè)中已被廣泛的應(yīng)用于機(jī)械加工,航天航空,微電子等領(lǐng)域。氮化鎢和氮化鉬薄膜具備較高的硬度和耐磨性,其熱穩(wěn)定性良好,耐腐蝕性強(qiáng)。在一般情況下,復(fù)合薄膜往往具有單一薄膜所不具備的綜合性能,具有更強(qiáng)的實(shí)用性。在氮化物復(fù)合薄膜中,當(dāng)薄膜中加入原子分?jǐn)?shù)為15%-20%銅或鎳等軟質(zhì)相元素時,薄膜的韌性更好硬度更高,因此,本文采用原子比為40∶40∶20的鉬鎢鎳合金作為靶材,利用磁控濺射設(shè)備,制備具有高硬度、
2、高耐磨性、綜合性能良好的鉬鎢鎳復(fù)合氮化膜。
本實(shí)驗(yàn)采用304不銹鋼和單晶硅作為基底,在高真空(10-3Pa)條件下,以氬氣作為放電氣體,氮?dú)庾鳛榉磻?yīng)氣體,通過改變實(shí)驗(yàn)參數(shù)(濺射功率、濺射時間、氮?dú)饬髁康龋?,研究不同的?shí)驗(yàn)參數(shù)對鉬鎢鎳復(fù)合薄膜的顯微結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能的影響。
利用射頻磁控濺射技術(shù),可在較低的溫度下,在不銹鋼和單晶硅基底上制備鎢鉬鎳復(fù)合薄膜,其中,鎳元素主要以固溶體的形式存在于薄膜中。實(shí)驗(yàn)參數(shù)(濺射功率、氣體
3、流量、濺射時間)的變化會對薄膜的相組成,成分和硬度產(chǎn)生影響。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:(1)采用適當(dāng)?shù)膶?shí)驗(yàn)參數(shù)制備的薄膜表面平整,致密度高,薄膜未發(fā)現(xiàn)明顯缺陷,當(dāng)濺射功率過高時,薄膜表面會有大顆粒金屬熔滴氮化物形成;(2)較低的濺射功率和較高的濺射功率均不利于薄膜中硬質(zhì)相的形成,當(dāng)濺射功率為150W時,薄膜的硬度最大,達(dá)29.61GPa;(3)氮?dú)饬髁康淖兓瘜Ρ∧さ南嘟M成和硬度均有一定的影響,當(dāng)?shù)獨(dú)饬髁繛?5sccm時,薄膜中出現(xiàn)(WM
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- Ni-Mo復(fù)合電極的制備及其析氫性能研究.pdf
- 超細(xì)W(Mo)基復(fù)合粉末的制備及其性能研究.pdf
- Ni-Mo-W非負(fù)載型加氫催化劑的制備及其性能研究.pdf
- W-Ti-N、W-Si-N和W-Mo-N復(fù)合膜微結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 脈沖電鍍制備Ni-Mo-X(X=W、Co)合金鍍層及其析氫性能的研究.pdf
- Ni-N薄膜材料的制備與性能表征.pdf
- Mg-Ni復(fù)合薄膜的制備及性能研究.pdf
- Ni-W合金鍍層及Ni-W-T-1復(fù)合鍍層的制備、表征及性能研究.pdf
- MS2(M=Mo,W)硫化物復(fù)合材料的制備及其性能研究.pdf
- 直流脈沖磁控濺射制備Mo薄膜及其性能研究.pdf
- ZnO薄膜的制備及其N摻雜性能研究.pdf
- Ni-Mo-W本體催化劑的制備、表征與加氫脫硫性能研究.pdf
- W-Ni和W-Ni-Cu納米復(fù)合粉末的制備及其激光燒結(jié)成型.pdf
- 非負(fù)載型Ni-Mo-W催化劑的制備、表征和加氫性能研究.pdf
- Ti-N及Si-N薄膜的制備及其性能研究.pdf
- 電沉積制備Ni-W、Co-Ni-W合金及性能研究.pdf
- 泡沫Ni-Mo-Fe電極的制備及其析氫性能研究.pdf
- 磁控濺射Ti-W-N和Ti-W-N-MoS2薄膜的制備及摩擦學(xué)性能研究.pdf
- 納米Ni-Cr薄膜的制備、表征及其性能研究.pdf
- CrN薄膜與Ti--Si--N納米復(fù)合膜的制備及其性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論