基于激光干涉比長儀的光柵線間距測量系統(tǒng)的研究.pdf

1、光柵尺作為位移傳感器，已廣泛應用于精密測量儀器中，隨著對測量精度要求的不斷提高，對光柵尺的質(zhì)量也提出了更高的要求。光柵的刻劃質(zhì)量直接影響其產(chǎn)生的莫爾條紋信號質(zhì)量，而柵距誤差是評價光柵刻劃質(zhì)量的重要指標，因此精確測量光柵的柵距，對于提高光柵產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要意義。
　　激光干涉比長儀是檢定線紋尺的最高等別裝置，主要針對刻線間距為0.1mm和1mm的標準線紋尺進行測量，而對于間距小于0.02mm的光柵類特殊線紋尺，難以實現(xiàn)直接測量。為

2、了滿足工業(yè)上對于光柵檢測的需求，本文設計了基于高倍率雙狹縫光電顯微鏡的測量系統(tǒng)，可直接應用在激光干涉比長儀上對微密刻線間距進行動態(tài)測量，從而實現(xiàn)了對光柵類特殊線紋尺線間距的檢定。
　　本文的主要研究內(nèi)容有：
　　(1)設計雙光路刻線信號采集系統(tǒng)對光柵的刻線進行動態(tài)瞄準，應用光電倍增管實現(xiàn)對光柵微密刻線像的光電轉(zhuǎn)換；
　　(2)設計信號處理電路，對兩路光電信號進行處理，提取刻線瞄準位置并輸出脈沖信號進行指示；