NIKON SCANNER同期精度控制方法的研究與實(shí)現(xiàn).pdf

1、隨著摩爾定律的不斷延續(xù)，半導(dǎo)體芯片的集成度越來(lái)越高，單位面積內(nèi)的晶體管數(shù)量也越來(lái)越多，隨之而來(lái)的就是線寬的不斷減小，這也就對(duì)半導(dǎo)體光刻設(shè)備的解析度和套刻精度的要求越來(lái)越高。為了滿足這些要求，光刻機(jī)由最開(kāi)始的步進(jìn)式光刻機(jī)發(fā)展到步進(jìn)掃描式光刻機(jī)，再到當(dāng)前市場(chǎng)主流的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，解析度由最開(kāi)始的微米級(jí)發(fā)展到納米級(jí)，套刻精度也由最初的幾微米發(fā)展到目前最新為2.5納米套刻精度的光刻機(jī)。與此同時(shí)，由于精度的不斷提高，對(duì)光刻機(jī)內(nèi)部各部分運(yùn)動(dòng)的同步性要

2、求就越來(lái)越高，業(yè)內(nèi)提出了同期精度這個(gè)用來(lái)評(píng)價(jià)光刻機(jī)各部分運(yùn)動(dòng)同步性的指標(biāo)，相關(guān)理論與評(píng)價(jià)方法受到廣泛研究。由此本文將尼康NSR-S204掃描光刻機(jī)作為對(duì)象，研究機(jī)臺(tái)的同期精度測(cè)量評(píng)估及同期精度控制方法。
　　本文闡述了掃描光刻機(jī)的曝光系統(tǒng)、坐標(biāo)系統(tǒng)、動(dòng)態(tài)曝光操作方式、同步控制技術(shù)等基本結(jié)構(gòu)和原理，在此基礎(chǔ)上進(jìn)一步分析了同期精度概念和評(píng)價(jià)方法。將這些理論和方法用于尼康NSR-S204掃描光刻機(jī)，對(duì)設(shè)備的誤差值、平均值、移動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)差、快

3、速傅立葉變換等關(guān)鍵參數(shù)的采集和分析，實(shí)現(xiàn)了同期精度的快速評(píng)估。進(jìn)一步的，針對(duì)工程項(xiàng)目中出現(xiàn)的同期精度評(píng)估不合格情況，結(jié)合設(shè)備故障現(xiàn)象，通過(guò)抓取的數(shù)據(jù)分析出問(wèn)題所在，逐步排除故障問(wèn)題點(diǎn)，然后發(fā)現(xiàn)問(wèn)題源頭所在，并通過(guò)對(duì)比發(fā)現(xiàn)所有NSR-S204機(jī)臺(tái)都存在相同隱患，最后制定了光刻機(jī)改造方案并加以實(shí)施。
　　改造后的光刻機(jī)經(jīng)用戶測(cè)試和現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際使用，結(jié)果表明，本次改造非常成功，從根本上消除了類(lèi)似同期精度問(wèn)題的再次發(fā)生，減少了停機(jī)時(shí)間的同時(shí)，