2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩68頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、本文從有機(jī)薄膜晶體管(OTFT)器件的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與制備出發(fā),對(duì)OTFT器件的相關(guān)參數(shù)進(jìn)行了合理設(shè)計(jì),制備了具有不同溝道寬長(zhǎng)比的 OTFT器件。器件采取底柵下電極結(jié)構(gòu),以酞菁銅為有機(jī)半導(dǎo)體層,二氧化硅為絕緣層,鈦/金雙層膜為源漏電極,電極采用叉指結(jié)構(gòu)。研究并分析了OTFT器件的穩(wěn)定性及器件參數(shù)對(duì)器件性能的影響,并實(shí)現(xiàn)了OTFT器件在氣體傳感器方面的初步應(yīng)用。
  在器件的設(shè)計(jì)與工藝實(shí)現(xiàn)方面,重點(diǎn)研究了制備OTFT器件的刻蝕工藝,結(jié)果表

2、明:物理轟擊強(qiáng)烈的ICP干法刻蝕不適合用于刻蝕鈦/金電極,而濕法刻蝕是一種比較合適的工藝,工藝條件KI:I2:H2O=4:1:40和HF:HNO3:H2O=1:1:5分別為刻蝕金和鈦(關(guān)鍵尺寸:5微米)的相對(duì)最佳工藝條件,刻蝕后材料表面干凈,關(guān)鍵尺寸線條清晰,橫向鉆蝕和誤差較小,最大絕對(duì)誤差0.21μm,最大相對(duì)誤差是4.2%。
  在OTFT器件特性研究方面,重點(diǎn)研究了OTFT器件的穩(wěn)定性和溝道寬長(zhǎng)比對(duì)器件性能的影響,結(jié)果表明:

3、(a)基于酞菁銅的OTFT器件置于空氣中時(shí),在其他條件不變的情況下,載流子濃度和體電導(dǎo)率逐漸增大,載流子遷移率幾乎不受影響,相同柵極電壓下器件達(dá)到飽和狀態(tài)所需的源漏極電壓增大,線性區(qū)向飽和區(qū)推進(jìn)。閾值電壓減小,在柵極電壓為0時(shí),界面處逐漸形成導(dǎo)電溝道,器件從增強(qiáng)型向耗盡型轉(zhuǎn)變。(b)基于酞菁銅的OTFT器件的溝道寬長(zhǎng)比不是影響載流子遷移率的主要因素,在其他條件相同的情況下,閾值電壓隨著寬長(zhǎng)比的增大而減小,而漏電流隨著溝道寬長(zhǎng)比的增大而增

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論