化學(xué)鍍Ni-P-S功能沉積層及其催化性能的研究.pdf

1、鄭州大學(xué)碩士學(xué)位論文化學(xué)鍍NiPS功能沉積層及其催化性能的研究姓名：張旭東申請學(xué)位級別：碩士專業(yè)：物理化學(xué)指導(dǎo)教師：張建民20031111化學(xué)鍍NiPS功能沉積層及其催化活性的研究件下低碳鋼的極化電位是1502V)。實驗表明在鍍液中硫脲含量較小時，析氫性能隨著其含量的增大而提高，但是當(dāng)硫脲的量超過lo觀時，析氫活性隨著硫脲加入量的增加有所下降。硫脲加入量為109／L時的析氫活性最高，在50“C，1MNaOH，200mA／cm2條件下，析

2、氫過電位比低碳鋼低250mV。硫脲的加入量決定NiPs功能鍍層的結(jié)構(gòu)，從而影響其電催化析氫性能。對硫脲加入量不同的鍍液所得的鍍層進行X射線衍射分析，從圖中可以看到，加入硫脲的鍍層圖中有Ni3S2的特征峰，說明鍍層表面生成了NhS2晶態(tài)結(jié)構(gòu)。實驗顯示Ni，S2的量和鍍層的析氫性能是一致的，Ni3S2的量越多其析氫性能就越好。對極化前后鍍層的表面結(jié)構(gòu)進行分析，從XRD圖中可以看出隨著極化后鍍層中的Ni3s2逐漸減少，功能鍍層的析氫電催化活性

3、逐漸增加，其可能原因是硫原子在電解過程中的逐漸溶出使鍍層的表面積增大。在電解液中加入10《M鐵離子，對復(fù)合鍍層的析氫性能進行測試，實驗顯示鐵離子對復(fù)合鍍層電極的電催化活性沒有影響。把NiPS沉積層放入馬福爐中在473K和573K進行高溫處理，Ni3s2晶態(tài)結(jié)構(gòu)基本沒有改變。由XRD圖分析可知，473K處理后Ni3S2晶態(tài)結(jié)構(gòu)沒有發(fā)生變化，其析氫性能也基本沒有變化；573K處理后的鍍層除了增加Fe304的特征峰外，Ni3s2晶態(tài)結(jié)構(gòu)也沒有