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文檔簡介
1、以PMMA為基體,通過對SU-82075光刻工藝中旋涂、前烘、曝光、后烘、顯影等參數(shù)的優(yōu)化,制備出厚度達500μm的全聚合物微流體反應器。同時提出了一種新型光刻工藝,即根據(jù)光刻膠固化收縮率,取定量光刻膠,用特氟龍刮刀鋪展開,繞開旋涂,直接進行前烘、曝光、后烘、顯影,制成具有特定厚度的全聚合物微流體反應器。然后使用旋涂了UV快速固化膠(SE-1)的BOPP膜對其進行封蓋。實現(xiàn)了流道內(nèi)無阻塞,且顯著地改善了微反應器頂部的透光性,特別適合進行
2、紫外/可見光反應。
利用該微反應器,在紫外光照射下制備了金納米粒子。采用紫外-可見吸收光譜、激光粒度分析儀、透射電鏡等對檸檬酸鈉-氯金酸微流體光化學反應體系進行了表征。考察了注射泵的流速、檸檬酸鈉/氯金酸的濃度比和紫外光輻射強度對金納米粒子紫外-可見光吸收峰強度和粒徑大小的影響。結(jié)果表明,金納米粒子的紫外-可見光吸收峰強度隨注射泵流速的增大而增強,但是隨檸檬酸鈉/氯金酸濃度比的增大和紫外輻射強度的增強而減弱。金納米粒子的粒
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