適合紫外-可見光反應的全聚合物微流體反應器制備金納米粒子的研究.pdf

1、以PMMA為基體，通過對SU-82075光刻工藝中旋涂、前烘、曝光、后烘、顯影等參數(shù)的優(yōu)化，制備出厚度達500μm的全聚合物微流體反應器。同時提出了一種新型光刻工藝，即根據(jù)光刻膠固化收縮率，取定量光刻膠，用特氟龍刮刀鋪展開，繞開旋涂，直接進行前烘、曝光、后烘、顯影，制成具有特定厚度的全聚合物微流體反應器。然后使用旋涂了UV快速固化膠(SE-1)的BOPP膜對其進行封蓋。實現(xiàn)了流道內無阻塞，且顯著地改善了微反應器頂部的透光性，特別適合進行

2、紫外/可見光反應。
　　 利用該微反應器，在紫外光照射下制備了金納米粒子。采用紫外-可見吸收光譜、激光粒度分析儀、透射電鏡等對檸檬酸鈉-氯金酸微流體光化學反應體系進行了表征?？疾炝俗⑸浔玫牧魉?、檸檬酸鈉/氯金酸的濃度比和紫外光輻射強度對金納米粒子紫外-可見光吸收峰強度和粒徑大小的影響。結果表明，金納米粒子的紫外-可見光吸收峰強度隨注射泵流速的增大而增強，但是隨檸檬酸鈉/氯金酸濃度比的增大和紫外輻射強度的增強而減弱。金納米粒子的粒