氧化釩熱敏感材料的制備及微橋結構設計研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁，還剩57頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內容提供方，若內容存在侵權，請進行舉報或認領

文檔簡介

1、該文以高純金屬釩作為靶材,采用磁控濺射工藝制備氧化釩薄膜.并分析了濺射功率,基片溫度和濺射氣氛等對薄膜方阻值的影響.分析表明當氧含量增加時,薄膜方阻顯著增加.濺射功率一方面影響氧和釩的結合程度,另一方面又明顯影響薄膜的生長速率及薄膜的厚度,所以在其它工藝條件固定的情況下,出現了方阻極大值.基片溫度的變化直接影響膜層的生長及特性,可以明顯地改善薄膜的機械強度和附著力,而且隨著基片溫度的升高,在磁控濺射過程中各個價態(tài)的釩容易向高價的釩進行轉

2、換.并且發(fā)現方阻為45-60KΩ的薄膜比方阻為15-25KΩ有較強的相變特征.通過樣品XPS分析得到在固定基片溫度,濺射功率和氬流量后,隨著氧流量的增加,四價釩和低價態(tài)釩在各態(tài)釩中含量比例存在一直增大的趨勢,但當達一定的值后再增加氧含量,四價釩和低價釩的含量增加的趨勢變緩.首次在國內成功的制備出比較完整的VOx非制冷紅外焦平面器件的微橋結構,在微橋結構制備過程中,犧牲層應采用光敏性的聚酰亞胺,在PECVD上用特殊工藝制作的光敏性聚酰亞胺

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網頁內容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論