浸沒式光刻機浸液溫度控制算法研究.pdf

1、浸沒式光刻機是現(xiàn)階段用于集成電路規(guī)模生產(chǎn)最先進的設備，分辨率和套刻精度是其關(guān)鍵性能指標，浸液溫度是影響上述兩個關(guān)鍵指標的主要因素之一。本文針對浸液溫度的高精度要求，設計一種浸液溫度控制算法。
　　該算法借助熱交換器，通過工藝冷卻水（PCW）和浸液在熱交換器中換熱調(diào)節(jié)浸液的溫度，改變PCW的流量，進而改變兩種流體的熱交換量，從而改變熱交換器出口的浸液溫度。
　　論文設計了該控制系統(tǒng)的原理圖，提出一種兩級串級控制模型，兩級控制對

2、應系統(tǒng)中的兩個流量伺服閥內(nèi)環(huán)為流量閉環(huán)反饋控制，內(nèi)環(huán)為流量控制，通過設定流量值來調(diào)節(jié)流量伺服閥開口，外環(huán)為溫度控制，通過算法設定內(nèi)環(huán)循環(huán)流量。這種結(jié)構(gòu)能夠很好的隔離系統(tǒng)中的各種擾動，降低時滯和系統(tǒng)的非線性對控制帶來的難度。
　　本文建立了熱交換器、流量伺服閥、管路、傳感器等系統(tǒng)中物理對象的傳遞函數(shù)，以及系統(tǒng)中入口擾動帶來的穩(wěn)態(tài)出口波動和動態(tài)出口變化，發(fā)現(xiàn)這是一個非線性，多擾動、時滯較大的系統(tǒng)。
　　本文提出分階段模糊PI控制