磁控濺射制備二氧化釩相變膜工藝研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、 本文主要是介紹直流平面磁控濺射法制備二氧化釩相變膜工藝的研究。圍繞二氧化釩相變膜制備技術，介紹了磁控濺射法制備工藝、退火工藝、表面成分分析及光學實驗在內的整個制備過程。在濺射前對基片進行反濺，解決了氧化釩薄膜與基底的結合問題。由于釩的氧化物有很多種，氧化釩研究的難點在于怎樣制備VO2含量高的氧化釩薄膜。為了提高純度我們對制備好的氧化釩薄膜做了退火處理，對它做了X射線光電子能譜(XPS)測試，在退火前后分別擬合了其組成成分，對擬合結果

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