大尺寸氟化鈣晶體光學(xué)加工工藝研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著晶體生長技術(shù)的成熟和完善，大尺寸CaF2晶體作為當(dāng)前綜合光學(xué)性能最優(yōu)良的人工晶體之一，應(yīng)用價值日益凸顯，但是其表面超光滑加工技術(shù)還有待完善。本文以φ200nmcaF2晶體為研究對象，以化學(xué)機械拋光技術(shù)為重點內(nèi)容，以CaF2晶體材料去除率理論模型為基礎(chǔ)，通過大量的實驗對其拋光工藝進行了系統(tǒng)研究。
　　首先采用單因素實驗法，研究了拋光墊、拋光液等加工輔料的特性參數(shù)，以及主要拋光工藝參數(shù)對大尺寸CaF2晶體化學(xué)機械拋光過程的影響作用

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