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文檔簡介
1、隨著航天、航空工業(yè)中各種飛行器飛行速度不斷提高,服役環(huán)境越來越惡劣,飛行器表面氣動(dòng)加熱和熱沖擊問題十分突出。飛行器用材料要求具有足夠高的強(qiáng)度和剛度,通常作為結(jié)構(gòu)材料的鋁合金難以承受如此高的熱載荷,而限制了鋁合金的廣泛應(yīng)用。因此必須對(duì)其表面進(jìn)行熱防護(hù)處理。微弧氧化技術(shù)在金屬表面原位生長陶瓷膜,可以制備高結(jié)合強(qiáng)度、優(yōu)良熱穩(wěn)定性和耐熱沖擊性能的膜層。本文針對(duì)微弧氧化膜層的上述特點(diǎn),制備優(yōu)良熱阻隔性能的膜層。
本文首先選定了硅酸鈉體系
2、做為制備熱阻隔膜層的電解液體系。研究了不同反正向電流比j-/j+對(duì)微弧氧化電特性、生長速率及能耗的影響。結(jié)果顯示:反向電流對(duì)放電過程產(chǎn)生調(diào)制作用,柔化了放電過程,提高了膜層的生長速率,降低了膜層的單位能耗。通過向電解液中添加氟鋯酸鉀的方式,大大提高了膜層生長速率,較Na2SiO3-KOH體系單位能耗大大降低,隨著K2ZrF6濃度的提高,膜層生長速率提高,單位能耗降低。
通過SEM及附帶的能普和XRD測試分析了膜層的形貌、成分和
3、結(jié)構(gòu)。在Na2SiO3-KOH體系中,反向電流對(duì)微弧放電產(chǎn)生了柔化作用,對(duì)膜層的形貌、結(jié)構(gòu)、成分產(chǎn)生了影響,使膜層的致密度提高。當(dāng)j-/j+=0.5時(shí),膜層中大缺陷消失,孔洞尺寸小,分布均勻,膜層質(zhì)量最好,并使得膜層的晶體峰明顯減少,非晶相增多。Na2SiO3-K2ZrF6-KOH體系中,反向電流的引入,改善了j-/j+=0時(shí)放電通道殘留的孔洞尺寸,表面形成的“圓餅”尺寸小。截面形貌顯示,與Na2SiO3-KOH體系中制備的膜層相比,膜
4、層質(zhì)量較好,且反向電流引入之后,膜層中的晶體相含量提高。各濃度下膜層的形貌和結(jié)構(gòu)相差不大,膜層由內(nèi)向外,Si和Zr元素含量逐漸升高。
經(jīng)微弧氧化處理之后,鋁合金的拉伸性能基本上沒有受到影響;耐磨性能提高,有效地保護(hù)了鋁合金基體。熱沖擊測試顯示,膜層與基體結(jié)合良好。對(duì)比分析可知,反向電流的引入提高了膜層與基體的結(jié)合力。LY12鋁合金經(jīng)微弧氧化處理之后,抗高溫氧化性能提高?;鹧鏌g測試結(jié)果顯示,微弧氧化膜層提高了LY12鋁合金基體
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