版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、單晶硅是微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的主要結(jié)構(gòu)材料,氮化碳薄膜(α-CNx)和DLC薄膜具有良好的機(jī)械性能,作為防護(hù)層薄膜已被廣泛用于微機(jī)電系統(tǒng)。徑向納動(dòng)廣泛存在于MEMS中,對(duì)MEMS器件的運(yùn)行可靠性有重要影響。因此,研究單晶硅的徑向納動(dòng)損傷及防護(hù)不僅可以豐富納米摩擦學(xué)的基礎(chǔ)知識(shí),而且對(duì)微機(jī)電系統(tǒng)的抗納動(dòng)損傷設(shè)計(jì)具有重要的參考價(jià)值。
本文首先利用納米壓痕儀和2μm球形壓頭,簡(jiǎn)要討論了氮化碳薄膜和單晶硅納動(dòng)損傷形式的不同,以及薄
2、膜對(duì)基體的保護(hù)作用;而后,采用壓痕儀和三種典型的不同形狀和曲率半徑的金剛石壓頭,研究了壓頭曲率半徑對(duì)單晶硅和氮化碳薄膜徑向納動(dòng)損傷的影響,并結(jié)合SEM的損傷形貌觀察,分析其接觸剛度隨循環(huán)次數(shù)的變化規(guī)律。最后,利用納米劃痕儀討論了劃痕實(shí)驗(yàn)設(shè)定的參數(shù)變化對(duì)單晶硅和氮化碳薄膜摩擦力和劃痕損傷形貌的影響。本文獲得的主要結(jié)論如下:
1.120nm厚α-CNx薄膜比單晶硅基體軟,徑向納動(dòng)過(guò)程中,α-CNx軟膜良好的塑性變形能力,對(duì)壓頭
3、的壓入產(chǎn)生了一定的緩沖作用,降低了單晶硅基體的損傷,很好的保護(hù)了基體。隨著循環(huán)次數(shù)和載荷的增大,單晶硅的損傷形式主要表現(xiàn)為徑向裂紋的擴(kuò)展和剝落,而氮化碳薄膜的損傷依次表現(xiàn)為薄膜彎曲變形、環(huán)狀裂紋產(chǎn)生和徑向裂紋萌生三個(gè)階段。
2.納動(dòng)實(shí)驗(yàn)中,相對(duì)于尖端曲率半徑,壓頭在一定壓入深度下的等效曲率半徑是決定材料納動(dòng)損傷程度的更有效參數(shù)。當(dāng)壓入深度小于臨界壓入深度時(shí),Berkovich壓頭等效曲率半徑最小,對(duì)單晶硅和氮化碳薄膜的徑向
4、納動(dòng)損傷最嚴(yán)重;當(dāng)壓入深度大于臨界壓入深度以后,2μm球形壓頭等效曲率半徑最小,對(duì)單晶硅和氮化碳薄膜的徑向納動(dòng)損傷最嚴(yán)重。在納動(dòng)循環(huán)初期,2μm球形壓頭和Berkovich壓頭在硅表面的接觸剛度升高較快,單晶硅表面的加工硬化現(xiàn)象明顯,而20μm球形壓頭基本不引起硅的加工硬化。
3.在單晶硅和氮化碳薄膜的劃痕實(shí)驗(yàn)中,劃痕速率是影響摩擦力和劃痕損傷的主要因素,而加載速率和劃痕長(zhǎng)度對(duì)摩擦力基本沒(méi)有影響。
4.實(shí)驗(yàn)所
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 氮化鉻和氮化碳薄膜的徑向納動(dòng)運(yùn)行與損傷研究.pdf
- 單晶硅的切向納動(dòng)研究.pdf
- 銅、單晶硅與鎳鈦形狀記憶合金的徑向納動(dòng)研究.pdf
- MEMS單晶硅薄膜疲勞特性研究.pdf
- 電子輻照對(duì)單晶硅性能影響的研究.pdf
- 溫度對(duì)單晶硅水下微觀磨損的影響.pdf
- 氮和氫離子注入單晶硅引起的損傷研究.pdf
- 直拉單晶硅生長(zhǎng)和工藝研究
- 快速熱處理對(duì)單晶硅機(jī)械性能的影響.pdf
- 直拉單晶硅生長(zhǎng)和工藝研究
- 快速熱處理對(duì)摻鍺直拉單晶硅的影響.pdf
- 單晶硅相關(guān)知識(shí)
- 單晶硅生產(chǎn)工藝
- 長(zhǎng)脈沖激光輻照單晶硅的損傷特性研究
- 快速熱處理對(duì)直拉單晶硅中氧沉淀和內(nèi)吸雜的影響.pdf
- 光學(xué)損失故障對(duì)單晶硅電池模型參數(shù)影響的研究.pdf
- 單晶硅表面形貌的調(diào)控技術(shù)及其對(duì)少子壽命的影響.pdf
- 單晶硅與多晶硅的區(qū)別
- 長(zhǎng)脈沖激光輻照單晶硅的損傷特性研究.pdf
- 單晶硅電火花線切割表面損傷層研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論