熔鹽電化學(xué)方法在鉭表面沉積碳膜的研究.pdf

1、碳膜因具有良好的物理、化學(xué)性質(zhì)，使得它在各個領(lǐng)域都得到了越來越廣泛的應(yīng)用。相比于制備碳膜的物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積等方法，采用電化學(xué)方法制備碳膜具有實驗設(shè)備簡單、材料的來源豐富且價廉、實驗的溫度較低和碳膜的沉積速度快等優(yōu)點，因此具有非常好的應(yīng)用前景。
　　本文以KCl-LiCl共晶熔鹽為電解質(zhì)，K2CO3為碳源，采用電化學(xué)方法在Ta表面沉積碳膜。通過高溫氧化與電化學(xué)沉積相結(jié)合的方法在碳膜和基體之間制備碳化物過渡層，增強碳膜與基體

2、之間的結(jié)合強度;討論了氧化條件、沉積溫度以及碳沉積量對基體表面沉積碳膜的影響。實驗結(jié)果如下:
　　通過對金屬Ta基體進行高溫預(yù)氧化、電脫氧和碳沉積，在其表面制備了附有碳化物過渡層的碳膜;過渡層實現(xiàn)了從基體到碳膜之間成分和結(jié)構(gòu)上的過渡，有效增加了碳膜與基體之間的結(jié)合力;電化學(xué)沉積溫度的提高有利于在鉭基體表面形成金屬Ta和W的碳化物，也增加了碳的沉積量和其中石墨相結(jié)晶程度;碳膜是由連接緊密的微米尺寸的球形碳顆粒組成，在沉積碳膜的過程中