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文檔簡介
1、以化合物半導(dǎo)體GaAs、InP、GaN等為材料制成的微波半導(dǎo)體器件與電路具有高速、抗輻照、寬工作溫度和低功耗等特點(diǎn)。隨著器件尺寸進(jìn)入亞微米甚至深亞微米,器件熱效應(yīng)的影響越來越顯著。因此,研究微波器件在熱應(yīng)力條件下性能的變化就顯得很重要。低頻噪聲測試技術(shù)是近年來研究器件質(zhì)量及可靠性方面成果比較顯著的一種評價(jià)工具,該方法可以檢測出器件內(nèi)部存在的缺陷,且成本低,對器件不造成損傷。本文研究噪聲測試技術(shù)診斷微波器件和電路熱應(yīng)力損傷的方法。
2、 在綜述了PHEMT器件結(jié)構(gòu)及特性基礎(chǔ)上,制定了噪聲測量方案,包括放大器的選擇,器件偏置電路的設(shè)計(jì)和噪聲測試平臺的搭建。依照測試方案,測量了微波器件高溫應(yīng)力前后的噪聲及電學(xué)特性,分析微波器件電學(xué)特性產(chǎn)生退化的原因,解釋了器件噪聲產(chǎn)生原因,建立了器件熱應(yīng)力損傷的噪聲表征模型。通過測試接近于夾斷電壓處的器件噪聲特性,確定g-r噪聲位置及頻率。在微波器件噪聲研究的基礎(chǔ)上,將噪聲測試方法和損傷診斷方法進(jìn)一步推廣到微波集成電路。分別測試合格
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