磁控濺射法制備柔性基底ZAO薄膜及其性能研究.pdf

1、ZAO透明導(dǎo)電薄膜可用于太陽電池的透明電極，用磁控濺射技術(shù)制備ZAO薄膜以代替目前廣泛使用的ITO薄膜，具有儲量豐富、易于制造、成本較低、無毒、熱穩(wěn)性好等優(yōu)點(diǎn)。而柔性ZAO薄膜成本低廉，容易獲得，可用于工業(yè)中的卷繞式大量生產(chǎn)，能降低薄膜太陽電池的生產(chǎn)成本，從而使其在實(shí)際生活中得到更加廣泛的應(yīng)用。
　　本文對柔性ZAO透明導(dǎo)電薄膜進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究，通過多組實(shí)驗(yàn)制備ZAO透明導(dǎo)電薄膜的最佳工藝參數(shù)。本文采用了射頻磁控濺射的方法在柔性基底

2、PET上制備ZAO透明導(dǎo)電薄膜，射頻磁控濺射法可以在低溫條件下制備性能優(yōu)良、膜層均勻的金屬氧化物薄膜。通過調(diào)節(jié)射頻磁控濺射鍍膜工藝中的工藝參數(shù)，如濺射功率、工作壓力、濺射時(shí)間以及基片溫度等米確定射頻磁控濺射法制備ZAO薄膜的最佳鍍膜工藝。對制備所得薄膜樣品，通過掃描電鏡觀察薄膜的表面形貌;通過紫外分光光度計(jì)測試薄膜的透光性;通過萬用表搭建測試薄膜電阻的簡易裝置以測試薄膜的方塊電阻。
　　通過多次實(shí)驗(yàn)，最終確定了最佳鍍膜工藝條件:濺