版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、為提高機械零部件表面耐磨、耐蝕等性能,延長零部件的使用壽命并滿足特殊環(huán)境使用要求,需在機械零部件表面通過特定的方法涂覆具有特殊性能的涂層。同時,伴隨著產(chǎn)業(yè)升級要求和環(huán)保壓力的加大,利用先進技術手段,對某些環(huán)境污染嚴重、能耗高的表面處理方法進行升級或替代研究具有重要的現(xiàn)實意義、經(jīng)濟價值和社會效益。近年來發(fā)展起來的非平衡磁控濺射技術,被認為是較有前途的表面涂層制備方法,本研究針對采用非平衡磁控濺射技術對電沉積硬鉻方法進行替代的工藝研究和設計
2、,具體包括如下三個方面:
(1)文獻資料收集、分析及工藝現(xiàn)場調(diào)研:
通過對資料及工藝的分析、調(diào)研,了解表面涂層制備技術發(fā)展現(xiàn)狀及各方法優(yōu)缺點,重點分析了非平衡磁控濺射技術制備硬質(zhì)涂層與電沉積硬鉻技術的原理與工藝特點。通過比較,電沉積硬鉻技術具有環(huán)境污染嚴重、能耗高及涂層性能有缺陷等不足,因此,采用新技術替代電鍍硬鉻在機械零部件中的應用勢在必行。
(2)工藝實驗和分析:
為了驗證非平
3、衡磁控濺射技術替代電沉積硬鉻的工藝可行性并為設備設計提供依據(jù),本研究在充分掌握非平衡磁控濺射技術原理的基礎上,針對液壓桿件的特殊使用要求,在不同的沉積工藝下分別制備Cr、CrN涂層。通過對涂層的性能分析,驗證了方法的可行性,并確定了可用的非平衡磁控濺射工藝參數(shù)。
(3)非平衡磁控濺射設備相關設計與計算:
依據(jù)工藝實驗及分析結(jié)果獲得的相關技術參數(shù),作者基于非平衡磁控濺射技術設計一套用于液壓桿件小批量生產(chǎn)的濺射裝
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 磁控濺射納米多層膜替代電鍍鉻涂層的研究.pdf
- 中頻非平衡磁控濺射制備DLC膜的工藝研究.pdf
- 非平衡磁控濺射沉積系統(tǒng)放電特性和沉積TiN-,x-薄膜應用研究.pdf
- 非平衡磁控濺射沉積MoS-,2--Ti復合薄膜研究.pdf
- 磁場非平衡度對磁控濺射Cr鍍層沉積過程的影響.pdf
- 非平衡閉合磁場磁控濺射設備的設計、制造及應用.pdf
- 閉合場非平衡磁控濺射沉積的CrAlN薄膜組織結(jié)構(gòu)和性能研究.pdf
- 中頻非平衡磁控濺射制備硬質(zhì)復合薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射法沉積硅薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射沉積氫化非晶硅薄膜及其結(jié)晶過程的研究.pdf
- 中頻非平衡磁控濺射制備TiAlN薄膜及其性能研究.pdf
- 非平衡磁控濺射離子鍍TiN硬質(zhì)薄膜研究.pdf
- 射頻磁控濺射沉積CuAlO2薄膜的工藝優(yōu)化與性能研究.pdf
- 基于ANSYS的(非)平衡磁控濺射鍍膜機磁場模擬.pdf
- 反應磁控濺射沉積AlN薄膜特性研究.pdf
- 會切場約束ICP增強非平衡磁控濺射放電及應用研究.pdf
- 裝飾薄膜氮化鋯的中頻反應磁控濺射沉積工藝的研究.pdf
- 磁控濺射沉積氧化銦薄膜及其TFT器件應用研究.pdf
- 脈沖磁控濺射沉積微晶硅薄膜的研究.pdf
- 非平衡磁控濺射離子鍍制備TiAlN薄膜及其性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論