Fe-N薄膜的結(jié)構(gòu)與磁性能研究.pdf

1、Fe-N薄膜因其具有高飽和磁化強(qiáng)度、低矯頑力，有望獲得較高的微波磁導(dǎo)率，而在集成化微磁器件、抗電磁干擾以及新型雷達(dá)波吸收材料研究中受到廣泛和高度的重視。本文在理論分析的基礎(chǔ)上，對薄膜的動態(tài)磁導(dǎo)率進(jìn)行了機(jī)理性解釋和總結(jié)。以Fe膜及Fe-N薄膜為具體研究對象，采用直流磁控濺射法制備了具有高飽和磁化強(qiáng)度的Fe-N薄膜。系統(tǒng)研究了氮?dú)夥謮簩e-N薄膜結(jié)構(gòu)和磁性能的影響，并對其微波磁特性作了初步的表征。
　　實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，氮?dú)夥謮菏怯绊戣F

2、氮化合物相形成的主要因素。隨著氮?dú)夥謮旱脑黾樱∧ぶ兄饕喑煞值难葑內(nèi)缦拢篴-Fe→ a￠-Fe16N2→ g￠-FeN＋g￠-Fe4N→ g￠-FeN＋g￠-Fe4N＋e-Fe3N→ g￠-FeN。即隨著氮?dú)夥謮旱脑龃螅∧ぶ懈坏嗟暮恐饾u增加。
　　Fe-N薄膜的飽和磁化強(qiáng)度與濺射時的氮分壓有很大的關(guān)系。隨著氮?dú)夥謮旱脑龃?，F(xiàn)e-N薄膜的飽和磁化強(qiáng)度先增大后減小。當(dāng)濺射氣體中N2含量為5％，即薄膜主要相成分為a￠-Fe16N