Fe-N薄膜的結(jié)構(gòu)與磁性能研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁，還剩60頁未讀， 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內(nèi)容提供方，若內(nèi)容存在侵權(quán)，請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、Fe-N薄膜因其具有高飽和磁化強度、低矯頑力，有望獲得較高的微波磁導率，而在集成化微磁器件、抗電磁干擾以及新型雷達波吸收材料研究中受到廣泛和高度的重視。本文在理論分析的基礎(chǔ)上，對薄膜的動態(tài)磁導率進行了機理性解釋和總結(jié)。以Fe膜及Fe-N薄膜為具體研究對象，采用直流磁控濺射法制備了具有高飽和磁化強度的Fe-N薄膜。系統(tǒng)研究了氮氣分壓對Fe-N薄膜結(jié)構(gòu)和磁性能的影響，并對其微波磁特性作了初步的表征。
　　實驗結(jié)果表明，氮氣分壓是影響鐵

2、氮化合物相形成的主要因素。隨著氮氣分壓的增加，薄膜中主要相成分的演變?nèi)缦拢篴-Fe→ a￠-Fe16N2→ g￠-FeN＋g￠-Fe4N→ g￠-FeN＋g￠-Fe4N＋e-Fe3N→ g￠-FeN。即隨著氮氣分壓的增大，薄膜中富氮相的含量逐漸增加。
　　Fe-N薄膜的飽和磁化強度與濺射時的氮分壓有很大的關(guān)系。隨著氮氣分壓的增大，F(xiàn)e-N薄膜的飽和磁化強度先增大后減小。當濺射氣體中N2含量為5％，即薄膜主要相成分為a￠-Fe16N

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容，請與我們聯(lián)系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論