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文檔簡(jiǎn)介
1、采用射頻磁控濺射法制備了具有高飽和磁化強(qiáng)度的Fe-N薄膜.系統(tǒng)研究了氮?dú)夥謮?、基底溫?濺射功率等制備工藝條件對(duì)Fe-N薄膜結(jié)構(gòu)和磁性的影響,以及Fe-N薄膜的飽和磁化強(qiáng)度的尺寸效應(yīng).實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明在各種制備工藝條件中氮?dú)夥謮汉突诇囟仁怯绊慒e-N薄膜結(jié)構(gòu)和磁性的兩個(gè)最主要的因素.薄膜中各種Fe-N相的形成強(qiáng)烈的依賴于濺射過(guò)程中氮?dú)夥謮汉突诇囟鹊母叩?當(dāng)?shù)獨(dú)夥謮簽?×10<'-4>Torr,基底溫度為100-150℃時(shí),最有利于高飽和
2、磁化強(qiáng)度α"-Fe<,16>N<,2>相的形成.在此條件下制備的Fe-N薄膜的飽和磁化強(qiáng)度,室溫下高達(dá)2179 emu/cc,遠(yuǎn)高于純鐵的飽和磁化強(qiáng)度值1714 emu/cc.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,采用射頻磁控濺射法制備的具有高α"-Fe<,16>N<,2>相體積含量的Fe-N薄膜的飽和磁化強(qiáng)度隨著薄膜厚度的增加先增加,在薄膜厚度為300 nm處達(dá)到其最大值(2179 emu/cc),在300-570 nm厚度范圍內(nèi),飽和磁化強(qiáng)度幾乎保持其最大
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