納米ZnO-聚苯乙烯復合膜的制備及性能研究.pdf

1、ZnO是第三代半導體材料，具有寬禁帶、高激子束縛能、價格低廉和環(huán)境友好等特點，具有廣闊的光電應用前景。納米結(jié)構的ZnO是無機材料中納米結(jié)構最豐富的材料之一，它具有量子限域效應，尺寸效應，表面效應等納米結(jié)構獨有的效應，在生產(chǎn)生活的各個領域均有很高的應用價值。
　　 紫外線是一種易對生物和器件造成損害的電磁輻射。將對紫外線有很好吸收性的ZnO納米顆粒與高分子基體復合，能夠制備出對紫外線具有屏蔽作用的有機無機復合物，一些研究者在這一領

2、域已經(jīng)進行了一定的研究，但依然存在很多問題需要克服，例如如何在不影響復合膜透明性的同時提高其紫外屏蔽性能，如何擴大復合膜基體材料的選擇范圍，如何制備出廉價可靠的復合膜等，因此高性能抗紫外復合膜的制備這個課題仍然值得人們進一步探索。
　　 本課題在前人工作的基礎上，通過溶液法合成了分散性良好的ZnO納米結(jié)構，并制備了具有優(yōu)良性能的ZnO納米晶－聚苯乙烯復合薄膜，研究了分散劑對于復合膜性能的影響，主要工作如下：
　　 1.采

3、用了溶液法合成了ZnO納米晶和納米棒，所得納米結(jié)構分散性良好，大小均勻，尺寸大小分別為約5 nm(納米晶直徑)和50 nm(納米棒長度)，并研究了所得納米結(jié)構的性能和分散劑對納米晶的作用。
　　 2.首次通過非原位法制備了具有高紫外吸收率和可見光透過率的ZnO-聚苯乙烯復合薄膜，并利用XRD、TEM、UV-Vis、TGA、PL等測試手段分析了薄膜的形貌結(jié)構和光學、熱學性能，且調(diào)節(jié)實驗參數(shù)制備得到了具有最佳光學性能的復合薄膜：當復