脈沖強流電子束作用下回噴靶材速度測量.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、能量20MeV、流強2.5kA、脈沖平頂寬度60ns的電子束聚焦后(FWHM焦斑1.5mm)轟擊韌致輻射鉭金屬轉(zhuǎn)換靶后產(chǎn)生的回噴靶材造成了加速組元的電擊穿,影響了加速器的正常工作。目前認為,采用快門進行阻擋回噴靶材可能是一種可行的辦法,其中決定快門動作速度一個重要參數(shù)就是回噴靶材的速度。 隨著直線感應加速器向著多脈沖發(fā)展,如何改進現(xiàn)有轉(zhuǎn)換靶的設計,使其能夠讓每個脈沖都產(chǎn)生符合要求的X射線成為了一個非常重要的問題。除了由靶表面雜質(zhì)

2、以及靶材等離子體產(chǎn)生的回流離子外,等離子體靶材的飛散將可能形成一個較長的等離子體通道,導致入射電子束的不穩(wěn)定。除此之外,由于靶材在第一個束脈沖作用過后向四周飛散,還可能造成后續(xù)脈沖沒有足夠的靶材與之作用來產(chǎn)生所需的X射線劑量。 本論文通過實驗探索了強電磁和射線干擾環(huán)境下束靶相互作用區(qū)的觀測方法,使用高速攝影方法首次觀測到了束靶作用區(qū)的物理現(xiàn)象,并測出了回噴靶材的軸向速度大于2.9mm/μs。在理論研究中,使用Monte-Carl

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