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文檔簡介
1、ZnO是Ⅱ-Ⅳ族直接帶隙半導(dǎo)體材料,室溫下禁帶寬度為3.37eV,同時具有高達(dá)60meV的激子束縛能以及出眾的光學(xué)和電學(xué)特性,這使其在下一代短波長發(fā)光二極管和激光器領(lǐng)域具有潛在的應(yīng)用價值。它的制備可以通過化學(xué)氣相沉積法(CVD)、分子束外延法(MBE)、濺射法、脈沖激光沉積法(PLD),氣相傳輸法(VPT)、水溶液法、熱蒸發(fā)法、以及超聲噴霧熱解法等來實現(xiàn)。其中超聲噴霧熱解法獲得了人們的廣泛關(guān)注,因為其有成本低廉、操作簡單、空氣氛圍下即可
2、實現(xiàn)等優(yōu)點。最近在氧化鋅的研究領(lǐng)域中,控制ZnO本底電導(dǎo)率和p型摻雜方面取得了一定的進(jìn)展,但是還有很多重要的問題有待解決。例如,對于大功率器件來說一個很嚴(yán)峻的問題就是散熱問題,如何選擇襯底是解決這個問題的關(guān)鍵。另外,對于一些特殊的應(yīng)用,例如大面積可折疊器件和高功率器件,需要把ZnO薄膜轉(zhuǎn)移到異質(zhì)襯底上,例如柔性塑料或者金屬襯底。如何把ZnO薄膜從襯底上分離又是一個需要解決的問題??紤]到石墨的多層結(jié)構(gòu)以及低熱阻特性,可以選用石墨作為生長Z
3、nO薄膜的襯底。
本文利用超聲噴霧熱解法在石墨沉底上生長ZnO薄膜,利用Zn(CH3C00)2·2H2O水溶液作為前驅(qū)溶液。把不同的生長溫度和生長時間作為變量,系統(tǒng)地測試了用這種方法生長的ZnO薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌和光學(xué)性質(zhì)。在室溫光致發(fā)光譜中檢測到了最佳樣品的近帶邊紫外發(fā)射。然而,經(jīng)常被檢測到的與缺陷有關(guān)的深能級發(fā)射幾乎沒有被檢測到,這表明通過超聲噴霧熱解法可以生長出高光學(xué)性質(zhì)的ZnO薄膜??紤]到石墨襯底可轉(zhuǎn)移和低熱阻的
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