玻璃基SnoZ透明導(dǎo)電薄膜及低輻射性能研究.pdf

1、氟或銻摻雜的氧化錫低輻射涂層玻璃被認(rèn)為是最經(jīng)濟(jì)實(shí)用的建筑節(jié)能玻璃材料。自1985年英國(guó)皮爾金頓公司制造出第一塊節(jié)能玻璃以來(lái)，各國(guó)均在低輻射玻璃領(lǐng)域進(jìn)行了大量的研究，已經(jīng)成功完善了磁控濺射法制備低輻射玻璃涂層的工藝，然而采用經(jīng)濟(jì)實(shí)用的噴霧熱分解工藝制備低輻射玻璃能夠極大地降低生產(chǎn)成本，在今后低輻射玻璃中低端產(chǎn)品領(lǐng)域?qū)⒄紦?jù)巨大的市場(chǎng)，因此，本課題著重于采用噴霧熱分解法制備大面積低輻射玻璃涂層的研究，以期制備出綜合光電性能優(yōu)良的低輻射玻璃產(chǎn)品

2、。
　　本課題在前期研究工作的基礎(chǔ)上，進(jìn)行了深入的理論探索，及產(chǎn)業(yè)化小試階段初步嘗試，具體工作如下:
　　1、探索氧化錫噴涂液的配制方法，成功配制出了性能優(yōu)良的氟銻均摻雜的氧化錫噴涂液，利用FT-IR紅外分光光度計(jì)、PHS-2F數(shù)字pH計(jì)等儀器對(duì)在配制過(guò)程中主要階段的氧化錫噴涂液進(jìn)行了紅外光譜測(cè)試分析及pH值測(cè)定，研究其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理。
　　2、在生產(chǎn)線上對(duì)氟銻摻雜的氧化錫低輻射涂層玻璃制備過(guò)程中的各項(xiàng)工藝參數(shù)進(jìn)行了探索

3、，得出在生產(chǎn)線上的最佳制備工藝為:沉積溫度700℃、玻璃相對(duì)移動(dòng)速率6.93cm/s、預(yù)先噴涂SiO2襯底和采用兩次噴涂成型的方法。已能成功制備出薄膜的部分部位綜合光電性能優(yōu)良的低輻射玻璃，該部位方阻為23Ω/□，半球輻射率為0.23，平均可見(jiàn)光透過(guò)率達(dá)到69％。
　　3、為節(jié)省成本、提高生產(chǎn)效率，對(duì)噴涂液進(jìn)行改進(jìn)，在實(shí)驗(yàn)室條件下成功制備出綜合光電性能優(yōu)良的氟摻雜的氧化錫薄膜，平均可見(jiàn)光透過(guò)率高達(dá)80%，半球輻射率低達(dá)0.11，說(shuō)