NbSiN-Ag-Cu低輻射薄膜的制備及性能研究.pdf

1、低輻射玻璃光譜選擇性優(yōu)異，在可見光范圍內(nèi)透過(guò)率高，能更好地利用自然光；同時(shí)對(duì)遠(yuǎn)紅外光譜有非常高的反射率，隔熱保溫性能良好，從而達(dá)到節(jié)能減排的效果。低輻射薄膜通常采用金屬銀作為功能層，然而，由于銀原子容易發(fā)生團(tuán)聚，導(dǎo)致薄膜致密性較差，同時(shí)不耐磨且抗腐蝕性能極差，對(duì)低輻射玻璃的光學(xué)性能影響很大。目前主要使用多層膜系來(lái)提高低輻射玻璃的綜合性能，本文采用反應(yīng)磁控濺射的方法制備了性能優(yōu)異的新型低輻射薄膜，系統(tǒng)研究了其制備工藝參數(shù)對(duì)薄膜的可見光透過(guò)

2、率、紅外反射率、表面粗糙度、薄膜電阻、表面形貌以及耐腐蝕性能的影響規(guī)律。
　　本實(shí)驗(yàn)以銀靶、銅靶、硅靶以及鈮靶為靶材，氬氣為工作氣體，氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，在室溫下采用反應(yīng)射頻磁控濺射法在玻璃基片和單晶硅片上沉積鍍膜。運(yùn)用表面輪廓儀、紫外可見分光光度計(jì)（UV-VIS)、四探針電阻儀、傅里葉紅外光譜儀(FTIR)、雙束聚焦掃面電子顯微鏡等儀器對(duì)薄膜的各項(xiàng)性能進(jìn)行檢測(cè)分析。
　　實(shí)驗(yàn)中銅作為種子層主要起潤(rùn)濕基板作用。當(dāng)濺射功率為80W

3、，工作壓強(qiáng)為0.2Pa，氬氣流量為15scc m，靶基間距為60 mm，濺射時(shí)間為10s，薄膜厚度為2 nm時(shí)，銀功能層的薄膜電阻由5.2Ω/□降低至4.1Ω/□，表面粗糙度由2.35 nm降低為1.12nm，這主要是因?yàn)殂~種子層促進(jìn)了銀的形核，提高了銀薄膜的致密性和光滑性。氮化硅鈮作為外介質(zhì)層，主要起保護(hù)和增透作用。當(dāng)硅靶功率為100W，鈮靶功率為50W，保持真空室壓強(qiáng)為0.8Pa，氬氣流量為40scc m，氮?dú)饬髁繛?0s cc m