關(guān)于光盤母盤平整度檢測(cè)的若干關(guān)鍵技術(shù)的研究.pdf

1、光盤母盤的制作是整個(gè)光盤生產(chǎn)中必不可少的一個(gè)環(huán)節(jié)，光盤母盤表面的技術(shù)參數(shù)，如表面平整度、粗糙度和缺陷密度等等，將直接影響到生產(chǎn)光盤的質(zhì)量。由此，我們必須采取精密的測(cè)試計(jì)量技術(shù)來(lái)對(duì)此進(jìn)行檢測(cè)，光盤母盤參數(shù)的測(cè)試對(duì)光盤的制作及使用有著十分重要的意義。 表面形貌測(cè)量技術(shù)與評(píng)定理論一直是當(dāng)今表面計(jì)量學(xué)的前沿課題。聚焦探測(cè)是用于光盤母盤表面測(cè)量較為有效的方法，其特點(diǎn)是垂直與水平測(cè)量范圍較大，動(dòng)態(tài)比率較高，能夠綜合測(cè)量光盤母盤表面的形狀誤差

2、、表面波紋度和表面粗糙度信息，以便評(píng)價(jià)三者之間的關(guān)系及其對(duì)母盤表面性能的影響。本系統(tǒng)具有設(shè)備簡(jiǎn)單、成本低、檢驗(yàn)精度高、非接觸性測(cè)量無(wú)損傷等優(yōu)點(diǎn)，并且利用計(jì)算機(jī)對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析處理，可以快速得到定量的檢測(cè)結(jié)果，拓展了像散法檢測(cè)的應(yīng)用領(lǐng)域。 本文的主要研究?jī)?nèi)容如下： 闡述了國(guó)內(nèi)外在光學(xué)元件面形檢測(cè)的研究現(xiàn)狀，介紹了各種光學(xué)元件面形的常用檢測(cè)方法，進(jìn)而明確了像散法檢測(cè)技術(shù)這一研究課題的現(xiàn)實(shí)意義和實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。 提出和

3、研制了一種適合于光盤母盤表面形貌測(cè)量的可行性方案。此系統(tǒng)的執(zhí)行構(gòu)件由音圈電機(jī)、直流伺服電機(jī)和步進(jìn)電機(jī)構(gòu)成。系統(tǒng)論述了各個(gè)組成單元的設(shè)計(jì)和實(shí)現(xiàn)方法?？刂齐娐飞蠈?duì)半導(dǎo)體激光器的功率穩(wěn)定做了簡(jiǎn)單的處理，設(shè)計(jì)了高速A/D采樣電路和大容量的外部RAM存儲(chǔ)電路，用MCU系統(tǒng)與PC機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)的交換和通信。運(yùn)用Visual Basic 6.0和Matlab6.5的混合編程技術(shù)，編制出一套光盤母盤檢測(cè)的圖像處理和數(shù)據(jù)分析軟件，實(shí)現(xiàn)了被檢母盤面形的三維重構(gòu)