版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)
文檔簡介
1、本文首先對類金剛石膜和TiN系列超硬膜兩種多功能涂層的性能,制備及檢測手段進行了綜合性的描述.在此基礎(chǔ)上,采用直流磁控濺射在多晶硅表面沉積了類金剛石的C膜,通過改變沉積基體的溫度,濺射功率,沉積氣壓等實驗參數(shù),使得到的C膜呈現(xiàn)出不同的表面形貌;采用多弧離子鍍,通過改變沉積的氣氛,不同靶材之間的轉(zhuǎn)換的方法,在不銹鋼表面分別沉積了TiN/TiAlN/TiN,TiN/TiAlN,TiN/TiNC三種多層膜.利用原子力顯微鏡(AFM),X射線衍
2、射儀(XRD)掃描電鏡(SEM),顯微硬度測量儀以及拉伸試驗對膜的組織、結(jié)構(gòu)、性能進行了性能檢測分析,得到以下結(jié)果:1.工藝參數(shù)對直流磁控濺射沉積DLC的表面形貌有明顯影響.(1)基體溫度越高,DLC膜的表面粗糙度越大,原因是溫度的升高增加了C原子表面擴散的能力,表面擴散趨向于生成含高sp<'2>鍵結(jié)構(gòu)更接近熱力學更加穩(wěn)定的石墨結(jié)構(gòu).石墨結(jié)構(gòu)越多,表面越粗糙;(2)濺射功率升高,表面粗糙度降低,原因是當植入離子的能量大于原子的剝離能時,
3、使進入亞表面的C原子增多,表面擴散不易進行,能量被耗散在內(nèi)部相對大的體積內(nèi),同時增加了濺射消移的效果,表面光滑,反之,如果植入的能量達不到一定數(shù)值,將主要進行表面擴散,粗糙度增加:(3)沉積氣壓升高,表面粗糙度增加,這與沉積氣壓升高增加了入射粒子的碰撞,從而降低了粒子的入射能量有關(guān).2.TiN/TiAlN/TiN,TiN/TiAlN,TiN/TiNC三種多層膜體系都形成了強烈的(111)面織構(gòu).TiN/TiAlN/TiN有最高的硬度,T
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 物理氣相沉積TiN復(fù)合涂層的制備和高溫性能研究.pdf
- 物理氣相沉積(pvd)技術(shù)
- 液相電化學沉積超硬碳膜.pdf
- 物理氣相沉積法制備TiN,CrN,TiAlN及TiAlN-氮化復(fù)合涂層的性能研究.pdf
- 物理氣相沉積法改性金屬鋰負極的研究.pdf
- 物理氣相沉積(PVD)涂層的摩擦學行為研究.pdf
- 等離子體增強化學氣相沉積DLC膜的研究.pdf
- 硅上原子層沉積與物理氣相沉積Pt薄膜的技術(shù)研究.pdf
- 物理氣相沉積CrN和AlCrN涂層轉(zhuǎn)動微動摩擦磨損性能研究.pdf
- 電子束物理氣相沉積技術(shù)制備LSM陰極的研究.pdf
- 物理氣相沉積氮化鉻涂層的制備及其摩擦學性能研究.pdf
- 殘留氣體分析在物理氣相沉積中應(yīng)用與發(fā)展.pdf
- 納米多層膜中的相轉(zhuǎn)變與超硬效應(yīng).pdf
- 電子束物理氣相沉積法制備SiC薄膜及性能研究.pdf
- 鈦合金表面液相法沉積DLC膜及其血液相容性.pdf
- 用化學氣相沉積法制備碳-碳復(fù)合材料及與物理氣相沉積法的對比.pdf
- 超硬納米復(fù)合膜致硬機理的研究.pdf
- End-Hall離子源沉積DLC膜的工藝研究.pdf
- (8)物理氣相淀積
- 電子束物理氣相沉積制備TiAl基合金薄板的組織性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論