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文檔簡(jiǎn)介
1、隨著集成電路規(guī)模的不斷增大,IC設(shè)計(jì)對(duì)現(xiàn)有的EDA軟件提出了更高要求,尤其是對(duì)后端的布局布線軟件;當(dāng)設(shè)計(jì)達(dá)到一定規(guī)模時(shí),物理上的層次化設(shè)計(jì)不可避免的要被用到;在90nm或90nm以下的設(shè)計(jì)中,由于物理幾何尺寸越來(lái)越小,信號(hào)完整性問(wèn)題也是一個(gè)重要的話題;而本文探討的正是結(jié)合兩者的層次化(hierarchy)物理設(shè)計(jì)的信號(hào)完整性(SI--Signal Integrity)的問(wèn)題。本文的工作重點(diǎn)是結(jié)合Synopsys公司的扁平設(shè)計(jì)信號(hào)完整性流
2、程(FDFSI:Flattening Physical DesignFlow with SI)的特點(diǎn),對(duì)Synopsys的層次化物理設(shè)計(jì)流程(HDF:HierarchicalPhysical Design Flow without SI)進(jìn)行了改進(jìn),發(fā)展出新的層次化信號(hào)完整性的物理設(shè)計(jì)流程(HDFSI:Hierarchical Physical Design Flow with SignalIntegrity)。
本文探討
3、了SI的一些基本問(wèn)題。對(duì)扁平化物理設(shè)計(jì)而言,對(duì)信號(hào)完整性收斂產(chǎn)生不利影響的主要有以下幾個(gè)因素:互連耦合電容引起的串?dāng)_噪聲(Crosstalk)、電流流過(guò)電源/地網(wǎng)絡(luò)產(chǎn)生的直流電壓降(Voltage IR Drop),電流密度過(guò)高引起的電遷移(Electro Migration),以及其它一些相關(guān)于芯片制造的問(wèn)題(天線效應(yīng),金屬填充)。其中,對(duì)于深亞微米集成電路影響最大的是互連耦合電容引起的串?dāng)_。而在層次化物理設(shè)計(jì)中,由于其特殊性,EDA
4、軟件通常在頂層將子模塊看成是黑盒子,因此,布線引擎、優(yōu)化引擎(修復(fù)SI問(wèn)題)和時(shí)序分析引擎看不見底層的狀況,而在低層也看不見頂層的狀況,所以,層次化物理設(shè)計(jì)主要解決的信號(hào)完整性問(wèn)題集中在靠近/跨越子模塊邊界的信號(hào)線之間的耦合電容引起的串?dāng)_。
本文的組織如下:首先介紹了影響信號(hào)完整性的各種因素和設(shè)計(jì)的不同階段,信號(hào)完整性的解決方案;然后重點(diǎn)介紹了Synopsys公司的90nm或90nm以下的超大規(guī)模設(shè)計(jì)中層次化信號(hào)完整性(h
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