超平滑陶瓷釉的研究.pdf

1、我國(guó)是世界上最大的建筑與衛(wèi)生陶瓷生產(chǎn)國(guó)，也是世界上最大的建衛(wèi)陶瓷消費(fèi)市場(chǎng)，但總體經(jīng)濟(jì)效益不高。與國(guó)外產(chǎn)品的主要差距是釉面存在微小的針孔和凹凸等缺陷。在使用過(guò)程中，污垢、細(xì)菌等易沉積在缺陷處，對(duì)人們的身體健康構(gòu)成危害，并且影響美觀、難于清洗。降低釉面粗糙度，是解決這一問(wèn)題的根本方法，也是目前陶瓷潔具生產(chǎn)企業(yè)和科研工作者研究的熱點(diǎn)之一。 本文以鉀長(zhǎng)石、石英、高嶺土、方解石、白云石等為原料，采用常規(guī)燒成方法制備了超平滑釉，探討了釉漿性

2、質(zhì)、釉料高溫性質(zhì)、釉層的顯微結(jié)構(gòu)等對(duì)釉面粗糙度的影響。 釉漿性質(zhì)如釉料組成、粒度、濃度、流動(dòng)性等不僅是影響施釉過(guò)程的關(guān)鍵因素，同時(shí)也對(duì)燒后釉面質(zhì)量有較大的影響。隨釉料中熔塊含量的增加，燒后釉面粗糙度逐漸降低，光澤度逐漸增加。當(dāng)熔塊含量達(dá)60wt％以上時(shí)，釉面粗糙度(Ra)小于10nm含量增加至80wt％以上時(shí)，釉面光澤度大于110％。隨釉漿粒度的減小，釉面粗糙度逐漸降低，D90介于4.0～7.5μm之間時(shí)，釉面粗糙度小于10nm

3、。生坯施釉時(shí)釉漿濃度以1.5～1.6g·cm-3為宜，素坯施釉時(shí)釉漿濃度應(yīng)控制在1.6～1.7g·cm-3，可以獲得釉面質(zhì)量較好的試樣。釉漿的流動(dòng)度在8～10(Pa·s)-1左右時(shí)，有利于施釉工藝，而且釉層厚度適當(dāng)。隨釉漿中羧甲基纖維素(CMC)含量增加，釉漿的粘度先減小后增大，CMC含量在0.3wt％左右時(shí)，釉漿具有良好的懸浮穩(wěn)定性。釉料高溫性質(zhì)如粘度、表面張力和潤(rùn)濕性等對(duì)釉的熔體能否在坯體表面鋪展成光滑、平整的釉面起著重要的作用。粘

4、度和表面張力過(guò)大或潤(rùn)濕性差的釉難以在坯體上均勻鋪展，且阻礙坯體內(nèi)氣體的逸散，使釉面不平整；粘度和表面張力過(guò)小時(shí)，容易導(dǎo)致釉層厚薄不均，也不能形成平整的釉面。實(shí)驗(yàn)表明：當(dāng)1gη(粘度的對(duì)數(shù))在2.65～3.15之間、表面張力介于350～380m·(N·m)-1、釉熔體對(duì)坯體的潤(rùn)濕角在30～15°之間時(shí)，可以形成粗糙度較小、質(zhì)量良好的釉面。 釉層中的氣泡主要來(lái)源于坯體致密化和釉料高溫分解產(chǎn)生的氣體。越接近釉層表面，一般氣泡直徑越大。