光學(xué)多通道表面檢測(cè)系統(tǒng)的研究.pdf

1、隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的迅猛發(fā)展，晶片與薄膜已被廣泛應(yīng)用于各種微電子、光電子器件中，與此同時(shí)，晶片與薄膜材料的表面缺陷也逐漸成為限制器件性能的主要因素。為保證器件質(zhì)量、提高器件性能，實(shí)時(shí)、在線檢測(cè)晶片與薄膜表面缺陷已變得不可或缺。但是，由于晶片與薄膜表面缺陷的多種多樣，制造商不得不采用多種檢測(cè)設(shè)備對(duì)它們進(jìn)行檢測(cè)，這不僅大大降低了生產(chǎn)效率、而且增加了檢測(cè)成本。因此，利用一種檢測(cè)設(shè)備實(shí)現(xiàn)多種缺陷檢測(cè)已經(jīng)成為制造商的迫切需求。
　　針對(duì)上述

2、需求，本文設(shè)計(jì)了一種光學(xué)多通道表面檢測(cè)系統(tǒng)（OpticalMulti-channelSurfaceDetectingSystem，簡(jiǎn)稱OMSDS）。該系統(tǒng)結(jié)合了反射檢測(cè)技術(shù)、散射檢測(cè)技術(shù)、光學(xué)形貌檢測(cè)技術(shù)、相移檢測(cè)技術(shù)等多種光學(xué)檢測(cè)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了對(duì)晶片與薄膜材料表面缺陷的全面檢測(cè)。本文通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了OMSDS的可行性，同時(shí)對(duì)下一步研究工作提出了建議。
　　論文的主要研究?jī)?nèi)容包括以下幾個(gè)方面：
　　(1)閱讀了大量的國(guó)內(nèi)外相關(guān)文

3、獻(xiàn)，歸納整理了表面檢測(cè)技術(shù)的研究現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì)。研究了幾種常用的光學(xué)檢測(cè)理論及其實(shí)現(xiàn)方法，在此基礎(chǔ)上，完成了OMSDS系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及入射、反射、散射基本光路設(shè)計(jì)，通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了入射和反射光路的可行性。
　　(2)完成了OMSDS中圖像采集子系統(tǒng)功能定義，通過研究該子系統(tǒng)功能要求及圖像傳感器特性，設(shè)計(jì)了圖像采集子系統(tǒng)的電路原理圖，制作了電路板，經(jīng)過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了電路原理圖的正確性，解決了OMSDS圖像采集問題。
　　(3)進(jìn)行了O