不同鍍膜釹鐵硼磁體抗腐蝕性與細胞毒性的體外實驗研究.pdf

1、目的:
　　 比較不同鍍膜釹鐵硼磁體在模擬口腔環(huán)境下的抗腐蝕性能,并通過研究其對L929小鼠成纖維細胞的增殖及凋亡的影響評價其細胞毒性,為釹鐵硼磁體在臨床上有效、安全地使用提供參考。
　　 方法:
　　 1、將未鍍膜釹鐵硼磁體,氮化鈦鍍膜釹鐵硼磁體,類金剛石鍍膜釹鐵硼磁體在37℃人工唾液環(huán)境下浸泡60天,并于浸泡之同起每10天吸取定量浸泡液,以電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-AES)測定其內鐵離子濃度。浸泡結

2、束后比較各組磁體浸泡前后質量變化占原質量的百分比。
　　 2、在未鍍膜釹鐵硼磁體,氮化鈦鍍膜釹鐵硼磁體,類金剛石鍍膜釹鐵硼磁體中加入DMEM培養(yǎng)基,制備浸提液。將3組浸提液以DMEM培養(yǎng)基稀釋,每組均制備100％,50％,25％三種濃度。以上述9組浸提液和陰性對照液,陽性對照液分別進行L929小鼠成纖維細胞培養(yǎng),培養(yǎng)48小時后以MTT法檢測各組吸光度,并計算相對增殖率,從而評價各組細胞毒性。采用流式細胞儀Anr|exinv-FI

3、TC/PI雙染法檢測陰性對照液組,100％未鍍膜磁體浸提液組,100％氮化鈦鍍膜磁體浸提液組及100％類金剛石鍍膜磁體浸提液組進行L929小鼠成纖維細胞培養(yǎng)后,各組正?；罴毎?、早期凋亡細胞、晚期凋亡和壞死細胞的分布差異,并繪制散點圖。
　　 結果:
　　 1.氮化鈦鍍膜磁體和類金剛石鍍膜磁體浸泡液中的鐵離子濃度在10,20,30,40,50,60天各時間點上均低于未鍍膜磁體浸泡液中的鐵離子濃度,差異有統(tǒng)計學意義。氮化鈦鍍

4、膜磁體與類金剛石鍍膜磁體之間的鐵離子濃度差異無統(tǒng)計學意義。
　　 2.氮化鈦鍍膜磁體和類金剛石鍍膜磁體浸泡前后質量差與初始質量的百分比低于未鍍膜組,差異有統(tǒng)計學意義。氮化鈦鍍膜磁體與類金剛石鍍膜磁體之間浸泡前后質量差與初始質量的百分比差異無統(tǒng)計學意義。
　　 3.MTT結果顯示氮化鈦鍍膜釹鐵硼磁體的細胞毒性為1級,類金剛石鍍膜釹鐵硼磁體的細胞毒性為0～1級(根據(jù)不同浸提液濃度),未鍍膜磁體的細胞毒性為2級。陽性對照組為4