氧化鋯基臺的研制及機械性能檢測.pdf

1、目的：研制氧化鋯基臺并對其機械性能進行初步檢測。
　　 方法：選用納米氧化鋯粉，采用冷等靜壓成型方法和二次燒結工藝制作氧化鋯基臺。(1)分別取10枚氧化鋯基臺和鈦基臺測量其表面粗糙度Ra、Rz值；(2)分別取10枚氧化鋯基臺和鈦基臺與0sstemuSⅡ種植體裝配組成氧化鋯基臺組與鈦基臺組，用掃描電鏡測量兩組基臺-種植體連接界面的微間隙；(3)各取5枚氧化鋯基臺和鈦基臺組成氧化鋯基臺組與鈦基臺組，分別將基臺與0sstemUSⅡ種植

2、體裝配，置于不銹鋼夾具中，用與基臺長軸垂直的力對基臺進行加載測量其抗折強度(加載速度0.5mm/min)。
　　 結果：制得的氧化鋯基臺形態(tài)良好。(1)氧化鋯基臺組的表面粗糙度Ra、Rz值為0.108±0.026μm、1.058±0.227μm，鈦基臺組的表面粗糙度Ra、Rz值為0.131±0.037μm、1.157±0.268μm;兩組間差別均無統(tǒng)計學意義(P>0.05)。(2)氧化鋯基臺-種植體連接界面的邊緣微間隙為3.01

3、±0.64μm、內部微間隙為28.5±1.6μm，鈦基臺-種植體連接界面的邊緣微間隙為2.71±0.42μm、內部微間隙為23.9±1.4μm;兩組間差別均有統(tǒng)計學意義(P<0.05)。(3)氧化鋯基臺組與鈦基臺組的抗折強度分別為537.6±90.0N、753.9±160.8N，兩組間差別具有統(tǒng)計學意義(P<0.05)。
　　 結論：在本實驗條件下，采用納米氧化鋯粉經(jīng)冷等靜壓成型和二次燒結工藝制作的氧化鋯基臺的表面粗糙度、基臺-