極紫外和軟X射線窄帶多層膜的研究.pdf

1、⑧申請同濟(jì)大學(xué)理學(xué)博士學(xué)位論文極紫外和軟X射線窄帶多層膜的研究(國家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目編號：10435050)培養(yǎng)單位：一級學(xué)科：二級學(xué)科：研究生：指導(dǎo)教師：物理系物理學(xué)光學(xué)吳文娟王占山教授二OO七年三月摘要能x射線波段(525key)，為了獲得窄帶多層膜，探討了多周期數(shù)Si／SiC、B4C／SiC和C／SiC多層膜的設(shè)計(jì)與制作，并與常規(guī)的W／B4C多層膜進(jìn)行了對比。由于實(shí)驗(yàn)工藝技術(shù)的限制，雖然在理論上Si／SiC、B4C／SiC和C

2、／SiC多層膜有非常窄的帶寬和高的反射率，但實(shí)際制作出的樣品并沒有達(dá)到預(yù)想的水平，這一工作需要今后進(jìn)一步的研究。三是結(jié)合高級次和減小吸收層厚度的方法來減小多層膜的帶寬。設(shè)計(jì)和計(jì)算了Mo層厚度分別為2rim和3nm的卜6級次的周期Mo／Si多層膜。用磁控濺射方法制作了多層膜樣品，由于這種方法所制備的Si層厚度較厚，實(shí)驗(yàn)采用了Si濺射功率分別為20W和60W的工藝條件。同步輻射測量結(jié)果表明，多層膜反射率隨著反射級次增加逐漸減小，帶寬逐漸也減