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文檔簡介
1、論文第一章從x射線光源、x射線光學元件和x射線多層膜的發(fā)展和研究狀況給出了簡要的綜述. 第二章討論了理論設計和性能分析問題,將薄膜光學理論成功應用于x射線多層膜的設計中,建立完善了設計程序和多層膜性能分析方法. 論文第三章介紹了多層膜沉積的工藝,給出了該研究小組獨特的轉(zhuǎn)速控厚法,這種方法在制備x射線多層膜中具有十分重要的意義.討論了利用多層膜的小角x射線衍射譜理論分析,導出了單層膜厚度和多層膜周期厚度的測量方法.論文根據(jù)對實際制備的多層
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