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文檔簡介
1、該論文由三部分組成:第一部分研究了直流反應磁控濺射制備TiO<,2>薄膜過程中,沉積速率同濺氣壓、基板同靶的距離(TSD)、基板溫度、氧氬比和油射速率等重要工藝參數(shù)的關系.第二部分結合占鎢燈用透明反近紅外節(jié)能薄的研制,逐步給出TiO<,2>/SiO<,3>全質(zhì)復合膜系的解析設計結果;利用單純形法和n步燁轉的共軛梯度法對γ/4膜系進行了優(yōu)化設計.第三部分利用直流反應磁控濺射的方法首次在國際上制備出具有光催化和光致親水親油雙新特性的TiO<
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