ZnO薄膜的生長及相關(guān)器件的制作與研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、ZnO是一種寬帶隙半導(dǎo)體材料,室溫下它的能隙寬度為3.37eV,激子束縛能高達60meV。目前,ZnO由于在紫外光輻射、變阻器、透明高功率電子器件、表面聲波器件、壓電傳感器、氣敏傳感器及作為顯示器件和太陽能電池窗口材料方面的廣泛應(yīng)用而引起人們極大關(guān)注。本文主要研究了ZnO薄膜的生長及其光學(xué)性質(zhì)和光電響應(yīng);制作了肖特基二極管和薄膜晶體管。本論文的主要內(nèi)容和結(jié)果如下: (1)借用“熱中子輻照硅片使部分硅嬗變?yōu)榱?,從而將硅摻雜成n型”

2、的思想,從質(zhì)子嬗變角度討論了實現(xiàn)ZnO材料的p型摻雜方案。 (2)利用sol-gel旋涂法在普通蓋玻片上生長了ZnO薄膜,用光學(xué)透射譜、光致發(fā)光譜和原子力顯微術(shù)研究了ZnO薄膜的光學(xué)性質(zhì)和表面形貌。結(jié)果發(fā)現(xiàn),在一定薄膜厚度范圍內(nèi),紫外發(fā)光帶和光學(xué)吸收邊均隨著薄膜厚度的減小而單調(diào)藍移,且紫外發(fā)光強度遞增,峰寬變大。綜合光致發(fā)光譜、光學(xué)透射譜和薄膜表面形貌,對導(dǎo)致光學(xué)性質(zhì)隨膜厚變化的原因進行了討論;研究了厚膜ZnO的紫外光電導(dǎo)時間響

3、應(yīng),得出ZnO材料具有很好的紫外探測性能結(jié)論。 (3)用射頻濺射法在鍍有200nm厚度鋁膜的載玻片上生長了ZnO薄膜,后利用光刻工藝、鍍膜工藝成功制備出肖特基二極管;并對其電學(xué)性質(zhì)進行分析,計算了一些特征參數(shù),勢壘高度為0.709V。 (4)用激光分子束外延設(shè)備和射頻濺射設(shè)備,在有180nm/200nm厚的柵氧化層的重摻雜p型〈111〉硅片上,生長了ZnO薄膜;后利用光刻工藝、鍍膜工藝成功制備出薄膜晶體管。對其基本原理和

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