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1、該論文在系統(tǒng)總結(jié)了國(guó)內(nèi)外GaN材料制備和器件應(yīng)用的研究歷史和現(xiàn)狀的基礎(chǔ)上,對(duì)金屬與n型GaN的歐姆接觸進(jìn)行了較細(xì)致的研究,計(jì)算出接觸電阻率,并在此基礎(chǔ)上制備了AlGaN基肖特基二極管原型器件,向GaN及其合金的微電子器件研究邁出了重要一步.另一項(xiàng)主要工作是對(duì)石英襯底上多晶GaN的外延生長(zhǎng)進(jìn)行了研究.主要工作如下:1、研究了Al單層及Ti/Al雙層電極與n型GaN在不同退火條件下的歐姆接觸情況,并用挖補(bǔ)圓盤(pán)法計(jì)算出接觸電阻率.2、利用Ti
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