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文檔簡介
1、本論文通過MOCVD生長手段,通過一系列實際的生長和測試實驗,在藍寶石襯底上異質(zhì)外延了高Al組分的AlxGa1-xN外延層,并且針對多種緩沖層技術(shù)下的成核層生長、脈沖緩沖層生長和超晶格緩沖層生長工藝,通過材料生長和材料表征兩方面,研究了關(guān)鍵層結(jié)構(gòu)中的關(guān)鍵工藝參數(shù)對AlxGa1-xN外延材料質(zhì)量的影響,對關(guān)鍵的工藝參數(shù)進行了一系列的優(yōu)化試驗,制備出了高質(zhì)量的AIN外延材料和高Al組份AlGaN外延材料。 對不同Al組分含量的高Al
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