金屬Gd表面Ti薄膜的制備及其性能研究.pdf

1、西華大學(xué)碩士學(xué)位論文金屬Gd表面Ti薄膜的制備及其性能研究姓名：李麗申請學(xué)位級別：碩士專業(yè)：材料加工工程指導(dǎo)教師：吳衛(wèi)20090401西華大學(xué)碩士學(xué)位論文糙不平，晶粒呈細(xì)纖維狀。在三個工作參數(shù)中，濺射電流對薄膜微觀結(jié)構(gòu)影響較大，當(dāng)電流較低時(1A15A)，薄膜處于非晶態(tài)，在此階段由于粒子～直處于無序狀態(tài)沒有改變，致使薄膜的各項(xiàng)宏觀性能沒有明顯變化；電流增大到2A，粒子的無序狀態(tài)消失，薄膜的各項(xiàng)宏觀性能出現(xiàn)大幅度的提高；當(dāng)濺射電流達(dá)到3A

2、時，粒子急劇增大，形狀變?yōu)轫敹似秸牧呅?，這樣的微觀結(jié)構(gòu)使Ti膜具有了更為優(yōu)異的宏觀性能。Ti膜在蒸餾水腐蝕實(shí)驗(yàn)中體現(xiàn)出優(yōu)良的耐腐蝕性能。與純Gd相比，Ti膜腐蝕速率明顯降低。通過分析可知，濺射時間對Ti膜的水腐蝕速率影響不大；濺射電流的增大顯著降低Ti膜的水腐蝕速率；濺射Ti膜的工作壓強(qiáng)與Ti膜的水腐蝕速率之間沒有規(guī)律性的變化關(guān)系，但當(dāng)工作壓強(qiáng)為11Pa時，腐蝕實(shí)驗(yàn)進(jìn)行到20天左右，薄膜出現(xiàn)脫落現(xiàn)象，嚴(yán)重降低了Ti膜對基體的保護(hù)作用

3、。Gd基底濺射Ti膜在蒸餾水中的極化曲線顯示，Ti膜有效的提高了腐蝕電位，對Gd抵抗電化學(xué)腐蝕貢獻(xiàn)較大。通過膜基結(jié)合性能實(shí)驗(yàn)可以看出：濺射時間的變化對薄膜與基體的結(jié)合性能影響不大；膜基結(jié)合力隨濺射電流的增大而增大；與工作壓強(qiáng)不成規(guī)律性變化。同時，磁化和去磁產(chǎn)生最大溫變處溫度與Gd相近，對Gd的制冷效果幾乎無影響。關(guān)鍵詞：Ti薄膜；磁控濺射；表面形貌；微觀結(jié)構(gòu)；宏觀性能本課題由國家“十五“863高科技項(xiàng)目支持項(xiàng)目名稱：室溫磁制冷材料及室溫