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文檔簡介
1、隨著能源問題的日益突出,近年來太陽電池光伏發(fā)電技術(shù)發(fā)展迅猛。聚合物襯底柔性薄膜太陽電池憑借其耗材少、成本低、可卷曲(柔性)、重量比功率高、輕便等特點成為當(dāng)前太陽電池研究領(lǐng)域的熱點。 聚酰亞胺(PI)膜具有耐高溫等優(yōu)點,被本研究選作了柔性襯底材料。針對聚合物材料光透過率普遍偏低的情況,本研究設(shè)計了“柔性襯底/Al底電極/N/I/P/TCO(透明導(dǎo)電薄膜)”的倒結(jié)構(gòu)柔性太陽電池,并制定了相應(yīng)的工藝制備方案。 PI膜在高溫20
2、0℃以上存在氣體釋放現(xiàn)象,本研究提出了PI膜的預(yù)烘(prebake)工藝,以解決PI膜高溫釋放氣體問題,并通過實驗確定了最佳的預(yù)烘工藝條件。在此基礎(chǔ)上,為了保證沉積在PI膜上的Al底電極不掉膜不脫落,本研究探索了制備高電導(dǎo)、良好附著性的Al底電極的工藝。 本研究通過在PECVD沉積非晶硅薄膜的過程中通入CH4來制備寬帶隙a-SiC:H薄膜作為電池窗口層以提高電池的性能,研究優(yōu)化了其制備工藝條件。同時研究了獲得高光暗電導(dǎo)比(dph
3、/dd>105)的本征非晶硅層的制備工藝以及獲得高暗電導(dǎo)的N型非晶硅膜層的制備工藝。 基于實驗室實際情況,采用ITO薄膜作為頂電極,分析研究了制備優(yōu)良ITO電極的工藝條件,獲得了平均透過率超過80%,電阻率為4.0′10-4W.cm的ITO透明導(dǎo)電薄膜。 在各步工藝的研究與實驗基礎(chǔ)上,制備出了彎曲前Voc=0.12V,Jsc=0.75mA/cm2。彎曲后Voc=0.07V,Jsc=0.46mA/cm2的單結(jié)柔性非晶硅薄膜
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