

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、新材料是科學技術發(fā)展的基礎和載體,納米科技作為21世紀的主導科學技術,將會給人類帶來一場前所未有的新的工業(yè)革命,納米材料是納米技術應用的基礎,納米材料表現(xiàn)出常規(guī)塊體材料不具備的物理和化學性質(zhì),以及在許多領域展示的潛在的重要應用前景已經(jīng)成為當今納米材料的前沿和熱點。近年來,納米材料受到廣泛的關注和研究??茖W家們正致力于研究對納米材料的組成、結(jié)構(gòu)、形態(tài)、尺寸、排列等的控制,以制備符合各種預期功能的納米材料。 本論文主要用水熱法制備了
2、管狀ZnO和片狀CuO納米材料;用熱氧化法在Cu片上制備了CuO納米線。利用等離子體法制備了TiAlN薄膜。利用X射線衍射儀(XRD)、透射電鏡(TEM)、場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)、X射線光電子能譜(XPS)并結(jié)合其它的一些儀器設備,對樣品的形貌、結(jié)構(gòu)及性質(zhì)進行測試。分析了在水熱反應條件下管狀ZnO的生長機理和熱氧化制備CuO納米線的生長機制。探索了磁控濺射制備TiAlN薄膜的摩擦學特性。得到的主要結(jié)果如下: (一)在水熱
3、反應條件下,成功制備了氧化鋅納米線;并進行了Fe元素摻雜的嘗試,發(fā)現(xiàn)Fe原子的引入影響了ZnO納米線的生長。首先利用sol-gel法制備了ZnO薄膜,然后在水熱反應條件下對氧化鋅薄膜進行處理得到ZnO薄膜上生長的ZnO納米棒陣列;引入Al離子后,在ZnO薄膜上得到了ZnO納米管。 (二)通過熱氧化反應在在銅片上制備了CuO納米線,退火溫度和時間對納米線影響CuO納米線的長度;水熱法在銅基底(銅片、銅網(wǎng))上成功制備了氧化銅納米片。
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 磁控濺射PbTe納米材料的制備、表征及特性研究.pdf
- 水熱-溶劑熱法ZnS納米材料的制備及性能研究.pdf
- 非真空法及射頻磁控濺射法制備CZTS材料研究.pdf
- 射頻反應磁控濺射制備氮化銅納米薄膜及其場發(fā)射性能研究.pdf
- 磁控濺射法制備薄膜材料綜述
- 直流反應磁控濺射制備氧化鉛薄膜.pdf
- 中頻反應磁控濺射制備氮化鋯薄膜及顏色制備工藝參數(shù)研究.pdf
- 反應磁控濺射法制備TiN薄膜的研究.pdf
- 反應磁控濺射制備AIN薄膜及其發(fā)光性能研究.pdf
- 磁控濺射Ti-Cu-N納米膜制備及性能研究.pdf
- 磁控濺射生長銀納米顆粒膜及在制備黑硅材料中的應用.pdf
- 反應磁控濺射制備(Ti,Al)N薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射制備鋁薄膜
- 納米材料的水熱溶劑熱法合成與表征.pdf
- 銻基納米材料的水熱法制備及表征.pdf
- 水熱-溶劑熱法可控合成低維納米材料.pdf
- 磁控濺射制備TiAlN薄膜及性能分析.pdf
- 水熱溶劑熱法可控合成低維納米材料
- 直流反應磁控濺射制備ZAO薄膜的工藝及理論研究.pdf
- 反應磁控濺射制備VO-,2-薄膜及表面特征研究.pdf
評論
0/150
提交評論