脈沖磁控濺射法制備石英晶體諧振器的研究.pdf

1、石英晶體諧振器是一種提供基準(zhǔn)時基的器件。它具有極高的頻率穩(wěn)定度,常用來作為頻率控制和頻率基準(zhǔn),在軍用通信裝置和科研儀器設(shè)備中占有重要地位,而且在民用方面也得到了非常廣泛的應(yīng)用。石英晶體諧振器的制造工藝對諧振器的性能有著極大的影響,因此完善諧振器的加工工藝有著十分重要的意義。在石英晶體諧振器一般的生產(chǎn)工藝中,真空鍍膜技術(shù)是對頻率穩(wěn)定度起著關(guān)鍵作用的生產(chǎn)步驟,而現(xiàn)階段人們在制造過程中主要采用的是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù),該鍍膜技術(shù)存在膜厚不易精確控

2、制、淀積薄膜不均勻等諸多缺點(diǎn),所以有必要對傳統(tǒng)的制造方法加以改進(jìn),嘗試用新的方法去提高石英諧振器的性能參數(shù)。 本文分析了脈沖磁控濺射的基本原理,成功地在石英晶片上沉積了鋁膜,對沉積速率與濺射工藝參數(shù)之間的關(guān)系作了深入的分析,以達(dá)到沉積一定厚度A1膜的目的。由于石英諧振器對電極薄膜的質(zhì)量要求很高,要得到致密、平整的薄膜,必須嚴(yán)格控制濺射工藝參數(shù)。除此之外,對直流磁控濺射和脈沖磁控濺射兩種情況下得到地A1膜的表面形貌,以及粗糙度作了