工藝參數(shù)對鋁合金微弧氧化陶瓷層生長特性的影響.pdf

1、鋁合金微弧氧化處理后其耐蝕性、耐磨性和抗熱沖擊性等性能顯著提高。但由于陶瓷層表面分布著大量微米級的微孔,使得硬度值在較大的區(qū)間內(nèi)波動(dòng),所以不宜采用硬度來表征陶瓷層的性能。另一方面,陶瓷層的致密性直接影響到其耐磨、耐腐蝕等性能。在此情況下,有必要尋求一種無損檢測方法對陶瓷層的致密性進(jìn)行表征,有利于促進(jìn)微弧氧化技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用與推廣。本課題研究了微弧氧化工藝參數(shù)(電流密度、頻率、占空比和時(shí)間)對鋁合金陶瓷層的生長速度、致密性、擊穿電壓和擊穿

2、場強(qiáng)的影響規(guī)律,探討了陶瓷層增重率與擊穿場強(qiáng)之間的關(guān)系,實(shí)現(xiàn)了擊穿場強(qiáng)對陶瓷層致密性表征。 結(jié)果表明：在其它條件不變的情況下,隨著電流密度的增大,鋁合金微弧氧化陶瓷層的厚度增加,大電流密度有利于陶瓷層快速生長,陶瓷層的增重率和擊穿場強(qiáng)均隨電流密度的增加而逐漸下降；隨著頻率的升高,陶瓷層的厚度先減小而后趨于穩(wěn)定,高頻不利于陶瓷層的快速生長,陶瓷層的增重率與擊穿場強(qiáng)隨著頻率的升高先逐漸增加而后趨于平穩(wěn)；隨著占空比的逐漸增大,陶瓷層的