混響室和電波暗室的低頻性能研究.pdf

1、電磁輻射類測(cè)試場(chǎng)地代表的混響室和電波暗室都受限于低頻性能，而采用射線追蹤等方法在低頻時(shí)分析的誤差又較大。本文針對(duì)當(dāng)前最新并且具有眾多優(yōu)點(diǎn)的固有混響室IRC，從基本混響理論、幾何外形和散射器三個(gè)方面進(jìn)行了研究： 首次推導(dǎo)出了有源圓柱腔體中不僅物理意義清晰而且方便應(yīng)用的電磁場(chǎng)解析式；擴(kuò)展了采用本征函數(shù)疊加法得到的關(guān)于三維有源矩形腔體的有關(guān)理論的應(yīng)用范圍；詳細(xì)地研究了不同幾何腔體中的模密度和模結(jié)構(gòu)；目的是通過深入研究混響室的工作機(jī)理，

2、為尋求最優(yōu)的混響室?guī)缀瓮庑翁峁﹫?jiān)實(shí)的理論基礎(chǔ)。這是本文最主要的創(chuàng)新成果。采用全波分析仿真的結(jié)果表明，在圓柱體、長方體、三棱柱和楔臺(tái)這四種腔體中，在不同頻段各有優(yōu)缺點(diǎn)；就獲取低頻均勻性的能力而言，楔臺(tái)腔體的總體效果最優(yōu)。對(duì)散射器的研究發(fā)現(xiàn)，與Schroeder散射器相比，特定尺寸的球冠作為散射器更能改進(jìn)低頻場(chǎng)均勻性，而且對(duì)混響室沒有明顯的加載，即不會(huì)顯著降低其Q值。特定尺寸的球冠有望成為最有前途的散射器。 其次，提出了一種改進(jìn)的混