多孔氧化鋁膜及其復合體系的制備與表征.pdf

1、本文的主要內容是通過二次陽極氧化法制備多孔陽極氧化鋁膜，在此基礎上對納米氧化鋅與多孔氧化鋁膜進行了組裝，最后，我們以多孔氧化鋁膜為模板制備了氧化鋅納米點陣列膜。 本文首先對納米材料的發(fā)展進行了綜述，包括納米材料概念的提出以及納米材料的發(fā)展階段。然后對多孔氧化鋁的發(fā)展進行了詳細的闡述，包括多孔氧化鋁膜的結構模型、形成機理、制備工藝和主要應用等。在此基礎上，提出了本文的主要研究內容和意義。 其次，我們詳細介紹了多孔氧化鋁膜的

2、制備工藝和過程，對不同氧化條件得到的多孔氧化鋁膜的性能進行了測量和比較。結果顯示，不同氧化電壓下得到的多孔氧化鋁膜的X射線衍射有明顯的不同，40V氧化電壓下得到的多孔氧化鋁膜衍射峰半高寬更小，而且峰的位置角度也更小，這說明得到的膜應力小，有序度高。光學性能測量顯示，該膜具有大于70％的可見光透過率，并且在350nm光激發(fā)下425nm處有一個光致發(fā)光峰。在多孔氧化鋁膜的基礎上，通浸泡、加熱等簡單的工藝對氧化鋅納米粒子與多孔氧化鋁膜進行了組

3、裝，制備了氧化鋅與多孔氧化鋁的復合體系。對復合體系研究發(fā)現(xiàn)，在多孔氧化鋁中的氧化鋅結晶良好，納米粒子的平均尺寸約為10.8nm，光致發(fā)光顯示相比多孔氧化鋁膜，復合體系的發(fā)光強度有所增強。通過射頻磁控濺射鍍膜的方法，制備了氧化鋅薄膜與多孔氧化鋁的組裝體系，研究發(fā)現(xiàn)，溫度對復合體系的性能有較大地影響。常溫下制備的復合體系的光致發(fā)光強度更大，因為光致發(fā)光與氧化鋅的缺陷態(tài)有關。較高的溫度減少了氧化鋅的缺陷。以多孔氧化鋁膜為模板，制備了氧化鋅納米