基于微光學(xué)器件數(shù)字分形掩模技術(shù)的研究與應(yīng)用.pdf_第1頁(yè)
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1、隨著激光技術(shù)和微細(xì)加工技術(shù)的發(fā)展,微光學(xué)元件特別是衍射微透鏡在現(xiàn)代通訊、軍事應(yīng)用、空間技術(shù)、超精加工、信息處理、生物醫(yī)學(xué)及娛樂(lè)消費(fèi)等眾多領(lǐng)域中的廣泛應(yīng)用,與微光學(xué)領(lǐng)域相關(guān)的設(shè)計(jì)、制作與應(yīng)用技術(shù)的研究受到越來(lái)越多的重視。 本文針對(duì)如何提高微光學(xué)的橫向分辨率及目前傳統(tǒng)的灰階掩模存在高頻信息容易丟失等問(wèn)題進(jìn)行研究,提出了數(shù)字分形掩模技術(shù),并以折衍混合器件為實(shí)例,對(duì)數(shù)字分形掩模技術(shù)的應(yīng)用進(jìn)行分析。該技術(shù)利用自行研制的基于DMD(Digi

2、tal Micromirror Device)數(shù)字掩模技術(shù)的精縮投影曝光系統(tǒng),將計(jì)算機(jī)生成的數(shù)字掩模圖形等效成灰度掩模,然后經(jīng)DMD精縮投影成像到涂有光刻膠的玻璃基板上,最后經(jīng)過(guò)顯影、刻蝕制作衍射微透鏡。數(shù)字分形掩模技術(shù)可以提高微光學(xué)器件的橫向分辨率,增強(qiáng)器件的衍射效率。其中重點(diǎn)介紹了臺(tái)階分形掩模技術(shù),周期分形掩模技術(shù)和混合分形掩模技術(shù)。 由于折衍混合光學(xué)成像系統(tǒng)相對(duì)于純衍射元件成像而言,具有寬的工作波長(zhǎng)范圍,充分利用了傳統(tǒng)光學(xué)

3、元件和衍射光學(xué)元件各自的特點(diǎn),有效的簡(jiǎn)化光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)、減輕重量、縮小體積和改善成像質(zhì)量?;诖?,本文利用ZEMAX軟件設(shè)計(jì)了折衍混合器件,并以機(jī)載折衍混合器件為實(shí)例,具體分析了數(shù)字分形掩模技術(shù)的應(yīng)用。首先,利用VC編程,設(shè)計(jì)出針對(duì)折衍混合器件衍射面的分形掩模的模擬軟件;然后,基于DMD數(shù)字灰度掩模制作系統(tǒng)進(jìn)行實(shí)驗(yàn),給出了仿真和實(shí)驗(yàn)結(jié)果,并對(duì)各種數(shù)字分形掩模技術(shù)的優(yōu)越性進(jìn)行分析,證明了數(shù)字分形掩模技術(shù)的優(yōu)越性。 對(duì)于器件的制作誤差

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