2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩118頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、傳統(tǒng)的富鋁Al-Cu合金是典型的時效硬化合金,在適當(dāng)條件下等溫時效或退火時會獲得過飽和固溶體→GPⅠ區(qū)(盤狀)→GPⅡ區(qū)或θ″相(盤狀)→θ′相(片狀)→θ相的完整沉淀序列。納米材料因為其獨特的行為(如光、電、磁、聲、力學(xué)和相變)與傳統(tǒng)塊體材料存在很大的差異而得到了廣泛的研究和應(yīng)用。迄今,關(guān)于亞微米級Al-Cu薄膜的研究發(fā)現(xiàn)了不同于傳統(tǒng)塊體材料特殊相變特性,但是對于經(jīng)適當(dāng)熱處理后晶粒尺寸仍然保持納米尺度的納米晶Al-Cu薄膜的相變研究尚

2、未展開。本文從實驗和理論兩個方面研究了納米晶Al-Cu薄膜的相變,主要結(jié)果描述如下。獲得納米尺度晶粒的Al-Cu薄膜,特別是經(jīng)過熱處理后仍然可以保持納米尺度的薄膜,是開展此一研究的前提與關(guān)鍵。經(jīng)廣泛探索,確定了合適的磁控濺射制備工藝。室溫濺射的薄膜晶粒尺寸應(yīng)盡可能小,且需控制好薄膜厚度,因為如果薄膜太薄,大量的沉淀相將在薄膜表面優(yōu)先形核,而如果薄膜太厚,因為需要較長的的濺射時間,就不能獲得小的納米晶。制備過程中,濺射氣壓、濺射功率和濺射

3、時間等是關(guān)鍵的工藝參數(shù)。最終選用的濺射參數(shù)為:濺射氣壓0.6Pa,濺射功率100W,濺射時間60分鐘。制備了含銅量分別為1、2及4wt%,厚度約為5μm的納米薄膜。制備過程使用的靶材為由純度99.999%的純鋁及純銅熔煉而成的合金靶材。所制備的薄膜平均晶粒尺寸約為20nm。經(jīng)過熱處理后的晶粒尺寸仍處于納米尺度。為了認識納米晶Al-Cu薄膜的相變行為,對濺射制備的納米晶Al-Cu薄膜進行了500℃固溶處理后的連續(xù)冷卻(在本文稱為退火處理)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論