基于fe2o3mos2的新型三元復(fù)合光電催化薄膜的制備及性能研究

1、燃必117Ill翟UIII』浙爐z角矢辱№347翟浙爐z角矢芬碩士學(xué)位論文論文題目：基王￡絲Q三二叢QS至的塹型三丞復(fù)金堂皇堡絲夔堪的制備及性能研究提交日期：2017年12月浙江工商大學(xué)碩士學(xué)位論文基于Fe203MoS2的新型三元復(fù)合光電催化薄膜的制備及性能研究摘要光電催化技術(shù)作為環(huán)境友好的新型處理技術(shù)之一，具有綠色無(wú)污染、降污兼產(chǎn)能等優(yōu)點(diǎn)，對(duì)解決日益緊張的環(huán)境污染和能源危機(jī)問(wèn)題有著至關(guān)重要的作用。光電催化技術(shù)中起著關(guān)鍵作用的是可見(jiàn)光響

2、應(yīng)型光電催化材料。采用電沉積法、水熱法和電泳沉積法制備了三元復(fù)合光催化薄膜Fe203MoS2Cu20，研究其光電催化性能。采用掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線(xiàn)衍射儀(Ⅺ①)和X射線(xiàn)光電子能譜儀(yes)等表征手段對(duì)催化劑的表面進(jìn)行檢測(cè)。由表征結(jié)果可知，MoS2和Cu20薄膜層成功地負(fù)載到了Fe203薄膜上。相對(duì)于一元材料和二元材料，三元材料的表面形貌發(fā)生了較大變化，且三元復(fù)合電極表現(xiàn)出更大的比表面積和更好的光吸收能力、光響應(yīng)和光電轉(zhuǎn)化效

3、率。此外，MoS2和Cu20薄膜的摻入能夠有效地抑制光生電子?？昭▽?duì)的復(fù)合，使得電極的光電催化性能有明顯的提升。在可見(jiàn)光條件下，F(xiàn)e203一MoS2一Cu20薄膜在038VvsAg／AgCl電壓下的光電流密度是一元材料Fe203的20倍，光電轉(zhuǎn)化效率約為Fe20s的2倍?？疾炝瞬煌呋瘲l件、不同材料、不同外加偏壓和初始pH值等對(duì)Fe203一MoS2Cu20催化薄膜光電催化降解苯酚污染物的影響。結(jié)果表明，當(dāng)外加電壓為25V，pH值為60，