電子工業(yè)的職業(yè)危害及控制原則

1、電子工業(yè)的職業(yè)危害及控制原則1、電子工業(yè)的分類及特點(diǎn)①電子工業(yè)是研制、生產(chǎn)電子設(shè)備及各種元件、器件、儀器、儀表的工業(yè)，有：廣播電視設(shè)備、通信、導(dǎo)航、雷達(dá)、電子計(jì)算機(jī)、電子元器件、電子儀器儀表及其他電子專用設(shè)備六大專業(yè)。從管理及生產(chǎn)組織區(qū)分，有下述類型：裝配、大批量、混合式、多品種小批量、流程式。②電子產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)鏈的三個(gè)層次：電子專用材料（專用設(shè)備：測量儀器、磨具制造）電子基礎(chǔ)產(chǎn)品（元件、半導(dǎo)體器件、真空器件、光電子器件）、終端產(chǎn)品（雷達(dá)、

2、通信設(shè)備、廣播電視設(shè)備、計(jì)算機(jī)、視聽設(shè)備……）③特點(diǎn)：a.技術(shù)密集型，科技含量高b.自動(dòng)化程度高c.產(chǎn)品復(fù)什、多種工藝同存，自制與外協(xié)并生d.研發(fā)投入大、升級(jí)換代快。2、電子工業(yè)的主要職業(yè)危害①半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝辨識(shí)，基本分為：氧化、光刻、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬鍍膜。主要化學(xué)有害因素：清洗：硫酸、硝酸、鹽酸、氫氟酸、磷酸、氟化銨、氨、雙氧水等外延：SiH4、SiHcl3、SiHcl2、SiHcl4、AsH3、B2H6、PH3、Hcl、H

3、2等光刻：甲苯、異丙醇、醋酸丁酯、cl2、Bcl3、C2F6、C3F8、CF4、SF6、HF、HCL、HBr、NO、C3H8等化學(xué)機(jī)械拋光：NH4OH、NH4CL、NH3、KOH、有機(jī)酸鹽化學(xué)氣相沉淀：SiH4、SiH2CL2、SiCL4、SiF4、CF4、B2H6、PH3、NF3、HCL、HF、NH3擴(kuò)散離子注入：BF3、AsH3、PH3、H2、SiH4、SiH2CL2、BBr3、BCL3、B2H6金屬化：SiH4、Bcl3、ALCL

4、3、TiCL4、WF6、TiF4、SiF4、ALF3、BF3、SF6等物理因素：紫外線、高溫特點(diǎn)：多種化學(xué)因素、特種氣體（如CL2、HCL、HBr、硅烷、磷烷、乙硼烷、CF4、SF6、氯仿等）質(zhì)保噪聲、x、高溫、低溫、HF、異丙醇制造磷酸、乙酸、HN03、β丁內(nèi)酯、甲基烷酮、丙酮、異丙醇、x、紫外氣管乙酸、硝酸、磷酸、鹽酸、SiH4、PH3、SF6、丁四醇、乙醇胺、異丙醇等化學(xué)品供應(yīng)水處理氣體配管c.據(jù)資料，陣列涉及化學(xué)物質(zhì)25種、圍材

5、3種、彩膜9種、成盒3種。上海調(diào)查22種，其中高毒3種、中毒12種、低毒7種物理因素：噪聲在新風(fēng)機(jī)組、鼓風(fēng)機(jī)、發(fā)電機(jī)、空壓機(jī)、泵非電離輻射：激光（曝光機(jī)測量檢驗(yàn)）紫外（干法刻蝕、感光材料照射）高頻：干法刻蝕、化學(xué)氣相沉積電離輻射：x線衍射儀（干法、濺射、化學(xué)氣相沉積、測量檢驗(yàn)）環(huán)境因素：溫濕度、正負(fù)離子、新風(fēng)量、微生物d.北京檢測測定15種化學(xué)物全部正常噪聲有的點(diǎn)（機(jī)房、水處理、質(zhì)保、產(chǎn)品評(píng)價(jià)）超標(biāo)高頻輻射（PECVD機(jī)）、紫外（干刻機(jī)

6、、PECVD觀視窗、UV固化機(jī)）④其他a.電鍍鍍銅（前處理）：CuSO4、H2SO4、氟化物、氰化物、堿、有機(jī)清洗劑（電鍍及清洗）：H2SO4、CuSO4、氟化物、氰化物（后處理）：廢液b.焊接現(xiàn)大量使用自助焊接，焊前需清洗，焊后用乙醇或水清洗；一般用免清洗助焊劑，手工焊仍廣泛使用；焊絲里有以松香為主的助焊劑；活化劑，酒精作溶劑。傳統(tǒng)的焊接為PbSn合金，現(xiàn)漸改用無鉛焊接；以Sn為主要成分，添加In、Ag、Bi、Zn、Cu、Al構(gòu)成多元