專利保護對我國高技術行業(yè)技術創(chuàng)新活動影響的實證分析.pdf

1、近些年，國際專利保護水平不斷提高，我國專利保護力度也在加大。國內(nèi)外對于加強專利保護對創(chuàng)新活動的影響頗有爭議，這種影響因國家、行業(yè)、時間的不同而不同。本文用目前最為先進的方法--修正后的G-P指數(shù)，測算了我國專利保護強度指數(shù)，采用我國17個三位編碼高技術行業(yè)1995年到2007年13年間的面板數(shù)據(jù)，實證檢驗了專利保護對我國高技術行業(yè)不同層次的創(chuàng)新（自創(chuàng)性創(chuàng)新、改良或模仿性創(chuàng)新）投入、產(chǎn)出和創(chuàng)新效率所產(chǎn)生的影響，并進一步分析了產(chǎn)生這種影響的

2、原因，認為專利保護會促進自創(chuàng)性創(chuàng)新而減少改良或模仿性的創(chuàng)新。
　　 論文共分五個部分：引言首先介紹了本文的研究背景與意義，通過歸納專利保護制度的爭議界定了本文的研究范圍，交代了作者的研究思路與方法，界定了本文兩個最重要的概念：專利保護和技術創(chuàng)新，指出了對二者的測度方法；第二章是相關文獻綜述，綜述了國內(nèi)外在相關理論和實證分析中的進展；第三章分析了我國1995年到2007年專利保護強度和高技術行業(yè)創(chuàng)新活動的變化情況。在回顧了新中國專

3、利法的實施與修改進程后，綜合國外學者創(chuàng)立的G-P方法和國內(nèi)學者的改進，用一系列指標對專利保護水平進行了量化，計算了我國13年間的專利保護強度指數(shù)。然后通過繪圖考察了以R&D經(jīng)費內(nèi)部支出為代表的高技術行業(yè)的創(chuàng)新投入、以R&D經(jīng)費中基礎研究和應用研究費用為代表的自創(chuàng)性創(chuàng)新投入、以專利擁有數(shù)和新產(chǎn)品銷售收入為代表的創(chuàng)新產(chǎn)出以及創(chuàng)新效率變化情況，提出了三個基本假設，對專利保護加強所產(chǎn)生的影響做了推測。假設一：我國專利保護強度與高技術行業(yè)的R&D

4、內(nèi)部支出存在顯著正相關關系；假設二：專利保護強度對高技術行業(yè)擁有發(fā)明專利數(shù)、新產(chǎn)品銷售收入存在顯著正面影響：假設三：專利保護強度對我國高技術行業(yè)的創(chuàng)新效率無顯著影響。第四章在對國外相關經(jīng)典模型修正的基礎上，建立了三個回歸方程，選取適合論文所用數(shù)據(jù)的控制變量，分別實證了專利保護強度與我國高技術行業(yè)創(chuàng)新投入、產(chǎn)出和創(chuàng)新效率之間的關系，以檢驗第二章所提出的三個假設是否成立，揭示專利保護與創(chuàng)新活動之間可能存在的深入關聯(lián)。第五章是結(jié)論。實證檢驗結(jié)

5、果并不支持假設一，表明我國高技術行業(yè)的R&D經(jīng)費內(nèi)部支出與專利保護強度之間顯著負相關，基礎研究與應用研究經(jīng)費內(nèi)部支出與專利保護強度正相關，由于基礎研究與應用研究經(jīng)費投入在總體R&D中所占比重較小，加強專利保護減少了我國高技術行業(yè)總體的創(chuàng)新研發(fā)投入。假設二也不成立，專利保護對我國高技術行業(yè)創(chuàng)新專利產(chǎn)出的影響與專利保護強度變化快慢有關，專利保護強度指數(shù)增長率與專利產(chǎn)出之間呈現(xiàn)出“U"字型，我國1995年到2007年間大多是處于“U”字的左側(cè)

6、。專利保護與高技術行業(yè)的新產(chǎn)品銷售收入是倒“U”字型關系，且基本處于倒“U”字型的左側(cè)，二者正相關。加強專利保護會促進自創(chuàng)性專利產(chǎn)出增加，減少改良或模仿性專利產(chǎn)出，我國高技術行業(yè)自創(chuàng)性創(chuàng)新活動比重太小，加強專利保護減少了創(chuàng)新的專利產(chǎn)出。結(jié)果還顯示專利保護對我國高技術行業(yè)的創(chuàng)新效率無顯著影響，假設三成立，說明二者之間無直接關聯(lián)，但專利保護會通過影響行業(yè)競爭度和市場結(jié)構而對創(chuàng)新效率產(chǎn)生間接影響。最后本文認為我們需要較強的專利保護，以提高高技