專利保護(hù)對(duì)我國(guó)高技術(shù)行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新活動(dòng)影響的實(shí)證分析.pdf

1、近些年，國(guó)際專利保護(hù)水平不斷提高，我國(guó)專利保護(hù)力度也在加大。國(guó)內(nèi)外對(duì)于加強(qiáng)專利保護(hù)對(duì)創(chuàng)新活動(dòng)的影響頗有爭(zhēng)議，這種影響因國(guó)家、行業(yè)、時(shí)間的不同而不同。本文用目前最為先進(jìn)的方法--修正后的G-P指數(shù)，測(cè)算了我國(guó)專利保護(hù)強(qiáng)度指數(shù)，采用我國(guó)17個(gè)三位編碼高技術(shù)行業(yè)1995年到2007年13年間的面板數(shù)據(jù)，實(shí)證檢驗(yàn)了專利保護(hù)對(duì)我國(guó)高技術(shù)行業(yè)不同層次的創(chuàng)新（自創(chuàng)性創(chuàng)新、改良或模仿性創(chuàng)新）投入、產(chǎn)出和創(chuàng)新效率所產(chǎn)生的影響，并進(jìn)一步分析了產(chǎn)生這種影響的

2、原因，認(rèn)為專利保護(hù)會(huì)促進(jìn)自創(chuàng)性創(chuàng)新而減少改良或模仿性的創(chuàng)新。
　　 論文共分五個(gè)部分：引言首先介紹了本文的研究背景與意義，通過(guò)歸納專利保護(hù)制度的爭(zhēng)議界定了本文的研究范圍，交代了作者的研究思路與方法，界定了本文兩個(gè)最重要的概念：專利保護(hù)和技術(shù)創(chuàng)新，指出了對(duì)二者的測(cè)度方法；第二章是相關(guān)文獻(xiàn)綜述，綜述了國(guó)內(nèi)外在相關(guān)理論和實(shí)證分析中的進(jìn)展；第三章分析了我國(guó)1995年到2007年專利保護(hù)強(qiáng)度和高技術(shù)行業(yè)創(chuàng)新活動(dòng)的變化情況。在回顧了新中國(guó)專

3、利法的實(shí)施與修改進(jìn)程后，綜合國(guó)外學(xué)者創(chuàng)立的G-P方法和國(guó)內(nèi)學(xué)者的改進(jìn)，用一系列指標(biāo)對(duì)專利保護(hù)水平進(jìn)行了量化，計(jì)算了我國(guó)13年間的專利保護(hù)強(qiáng)度指數(shù)。然后通過(guò)繪圖考察了以R&D經(jīng)費(fèi)內(nèi)部支出為代表的高技術(shù)行業(yè)的創(chuàng)新投入、以R&D經(jīng)費(fèi)中基礎(chǔ)研究和應(yīng)用研究費(fèi)用為代表的自創(chuàng)性創(chuàng)新投入、以專利擁有數(shù)和新產(chǎn)品銷售收入為代表的創(chuàng)新產(chǎn)出以及創(chuàng)新效率變化情況，提出了三個(gè)基本假設(shè)，對(duì)專利保護(hù)加強(qiáng)所產(chǎn)生的影響做了推測(cè)。假設(shè)一：我國(guó)專利保護(hù)強(qiáng)度與高技術(shù)行業(yè)的R&D

4、內(nèi)部支出存在顯著正相關(guān)關(guān)系；假設(shè)二：專利保護(hù)強(qiáng)度對(duì)高技術(shù)行業(yè)擁有發(fā)明專利數(shù)、新產(chǎn)品銷售收入存在顯著正面影響：假設(shè)三：專利保護(hù)強(qiáng)度對(duì)我國(guó)高技術(shù)行業(yè)的創(chuàng)新效率無(wú)顯著影響。第四章在對(duì)國(guó)外相關(guān)經(jīng)典模型修正的基礎(chǔ)上，建立了三個(gè)回歸方程，選取適合論文所用數(shù)據(jù)的控制變量，分別實(shí)證了專利保護(hù)強(qiáng)度與我國(guó)高技術(shù)行業(yè)創(chuàng)新投入、產(chǎn)出和創(chuàng)新效率之間的關(guān)系，以檢驗(yàn)第二章所提出的三個(gè)假設(shè)是否成立，揭示專利保護(hù)與創(chuàng)新活動(dòng)之間可能存在的深入關(guān)聯(lián)。第五章是結(jié)論。實(shí)證檢驗(yàn)結(jié)

5、果并不支持假設(shè)一，表明我國(guó)高技術(shù)行業(yè)的R&D經(jīng)費(fèi)內(nèi)部支出與專利保護(hù)強(qiáng)度之間顯著負(fù)相關(guān)，基礎(chǔ)研究與應(yīng)用研究經(jīng)費(fèi)內(nèi)部支出與專利保護(hù)強(qiáng)度正相關(guān)，由于基礎(chǔ)研究與應(yīng)用研究經(jīng)費(fèi)投入在總體R&D中所占比重較小，加強(qiáng)專利保護(hù)減少了我國(guó)高技術(shù)行業(yè)總體的創(chuàng)新研發(fā)投入。假設(shè)二也不成立，專利保護(hù)對(duì)我國(guó)高技術(shù)行業(yè)創(chuàng)新專利產(chǎn)出的影響與專利保護(hù)強(qiáng)度變化快慢有關(guān)，專利保護(hù)強(qiáng)度指數(shù)增長(zhǎng)率與專利產(chǎn)出之間呈現(xiàn)出“U"字型，我國(guó)1995年到2007年間大多是處于“U”字的左側(cè)

6、。專利保護(hù)與高技術(shù)行業(yè)的新產(chǎn)品銷售收入是倒“U”字型關(guān)系，且基本處于倒“U”字型的左側(cè)，二者正相關(guān)。加強(qiáng)專利保護(hù)會(huì)促進(jìn)自創(chuàng)性專利產(chǎn)出增加，減少改良或模仿性專利產(chǎn)出，我國(guó)高技術(shù)行業(yè)自創(chuàng)性創(chuàng)新活動(dòng)比重太小，加強(qiáng)專利保護(hù)減少了創(chuàng)新的專利產(chǎn)出。結(jié)果還顯示專利保護(hù)對(duì)我國(guó)高技術(shù)行業(yè)的創(chuàng)新效率無(wú)顯著影響，假設(shè)三成立，說(shuō)明二者之間無(wú)直接關(guān)聯(lián)，但專利保護(hù)會(huì)通過(guò)影響行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)度和市場(chǎng)結(jié)構(gòu)而對(duì)創(chuàng)新效率產(chǎn)生間接影響。最后本文認(rèn)為我們需要較強(qiáng)的專利保護(hù)，以提高高技