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文檔簡介
1、隨著薄片工藝等制造技術(shù)的發(fā)展,在場阻止型的絕緣柵雙極型晶體管(Field-Stop Insulated Gate Bipolar Transistor,F(xiàn)S-IGBT)的背面進行光刻和離子注入并形成N+短路區(qū)(N+-short)已成為一種可能,由此上世紀(jì)90年代提出的陽極短路型IGBT重新煥發(fā)生機。陽極短路型IGBT又被稱為逆導(dǎo)型IGBT(Reverse-Conducting Insulated Gate Bipolar Transis
2、tor,RC-IGBT)。但是目前的R C-IGBT產(chǎn)品只適用于軟開關(guān)領(lǐng)域(Soft Switching Condition),這是由于它們在逆向?qū)ㄟ^程中反向恢復(fù)損耗過大以及電流分布不均勻,進而造成器件局部過熱和可靠性較低。
本文針對目前RC-IGBT存在的問題,利用Sentaurus TCAD仿真軟件分析了影響RC-IGBT的正向?qū)?、反向?qū)?、關(guān)斷、反向恢復(fù)和阻斷等特性的因素。首先探究了RC-IGBT背面結(jié)構(gòu)的尺寸對正向
3、導(dǎo)通和反向?qū)ㄌ匦缘挠绊?。隨后針對常規(guī)RC-IGBT在硬開關(guān)領(lǐng)域(Hard Switching Condition)所遇到的問題,提出了具有低反向恢復(fù)損耗的RC-IGBT元胞結(jié)構(gòu)。最后對于常規(guī)RC-IGBT在正向?qū)ㄖ腥菀壮霈F(xiàn)的回跳(Snapback)現(xiàn)象,給出了一種新型的短路區(qū)結(jié)構(gòu)。
仿真結(jié)果表明,本文所提出的低功耗型的RC-IGBT,相比于常規(guī)RC-IGBT,其反向恢復(fù)損耗能減少約一半,反向恢復(fù)時間可減少約三分之一,反向恢
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