書法正體文字形態(tài)之沿革

1、中國美術(shù)學(xué)院學(xué)位論文原刨性聲明本人鄭重聲明：所提交的學(xué)位論文是本人在導(dǎo)師的指導(dǎo)下，獨(dú)立進(jìn)行研究工作所取得的研究成果。除文中已經(jīng)加以標(biāo)注引用的內(nèi)容外．本論文不包含其他個人或集體已經(jīng)發(fā)表或撰寫過的研究成果，也不舍為獲得中國美術(shù)學(xué)院或其它教育機(jī)構(gòu)的學(xué)位證書而使用過的材料。對本文的研究作出重要貢獻(xiàn)的個人和集體，均已在文中以明確方式標(biāo)明。本人承擔(dān)本聲明的法律責(zé)任。作者簽名 日期：z ，f 緝g 月／日學(xué)位論文版權(quán)使用授權(quán)書本學(xué)位論文作者完全了解學(xué)

2、校有關(guān)保留、使用學(xué)位論文的規(guī)定，同意學(xué)校保留井向國家有關(guān)部門或機(jī)構(gòu)送交論文的復(fù)印件和電子版，允許論文被查閱和借閱。本人授權(quán)中國美術(shù)學(xué)院可以將本學(xué)位論文的全部或部分內(nèi)容編八有關(guān)數(shù)據(jù)庫進(jìn)行檢索，可斟采用影印、縮印或掃描等復(fù)制手段保存和匯編本學(xué)位論文。本學(xué)位論文屬于l 、保密口，在——年解密后適用本授權(quán)書2 、不保密口。· ( 請在以上相應(yīng)方框內(nèi)打“4 ”)作者簽名導(dǎo)師簽名鄉(xiāng)芻嘉硝勻日期：2 一窿年∥月／日日期：z 口，緝∥月／日一

3、IJ Ⅲ關(guān)術(shù)f ％- 書n 采·‘l r * n Ⅲ倬女寧* $ 2 * ￥內(nèi)容提要中文摘要本文是以漢字’{ 』骨文一金文一小篆- 求1 s 一楷怕字形的發(fā)展遞進(jìn)過程為線素．利片j 科技時代r 書法嘲像資料優(yōu)勢．嘗試去挖掘其中隱藏的文寧發(fā)展歷史規(guī)律。在研究過程中，針剝筆右發(fā)現(xiàn)的些新的思考儆} 1 1 些初步解答：認(rèn)為甲骨文的契刮因素是漢字發(fā)展過程, t l 的一個芙鍵點(diǎn)：金文竹形式變化上已經(jīng)千『叫確的美感追求；存政治力量的介入